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結(jié)束語(yǔ)/在工業(yè)中使用除塵器收集灰塵已經(jīng)有了上的歷史，但是，到目前為止，還沒(méi)有一種不論在什么條件下都能夠圓滿解決問(wèn)題的除塵器。因此，要根據(jù)不同的具體情況選擇設(shè)計(jì)適用的除塵設(shè)備。對(duì)塵埃問(wèn)題，世界各真空設(shè)備都有各種性能要求和規(guī)格的除塵器、過(guò)濾器供用戶選擇。國(guó)內(nèi)還沒(méi)有生產(chǎn)性能規(guī)格的除塵器、過(guò)濾器的工廠，大都由用戶自行設(shè)計(jì)加工。設(shè)計(jì)人員掌握除塵技術(shù)的基本知識(shí)，考慮許多技術(shù)經(jīng)濟(jì)因素才能滿足實(shí)際應(yīng)用的要求。

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單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與分析1　引　言半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體工業(yè)的基礎(chǔ)材料 ,其中用量和用途廣泛的是半導(dǎo)體硅。當(dāng)今 95%以上的半導(dǎo)體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路 ,生產(chǎn)集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結(jié)晶生長(zhǎng)開始時(shí) ,用提拉的辦法制成的。在單晶硅生產(chǎn)過(guò)程中 ,對(duì)晶體的提拉速度有十分嚴(yán)格的要求 ,從某種程度上講提拉速度的控制好壞將直接影響到晶體的質(zhì)量。對(duì)單晶硅生產(chǎn)過(guò)程中的提拉速度控制系統(tǒng)進(jìn)行研究有實(shí)際意義。圖 1示出了單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)在單晶硅生產(chǎn)中的作用。提拉桿的運(yùn)動(dòng)是靠驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過(guò)減速器 ,再由齒輪齒條機(jī)構(gòu)帶動(dòng)的。在單晶爐中 ,要求提拉單晶硅的提拉桿不僅能以某一期望線速度 V向上 (下 )運(yùn)動(dòng) ,而且當(dāng)提拉負(fù)載增大引起線速度為零時(shí) ,提拉桿能保持其后位置而不上下滑動(dòng)。在實(shí)際單晶爐中 ,對(duì)提拉控制系統(tǒng)提出的主要技術(shù)指標(biāo)是 ,提拉速度在 0 .2～ 1 0 .0 mm/h范圍之內(nèi)實(shí)現(xiàn)無(wú)級(jí)可調(diào) ,線性精度大于± 2 %分子泵回收，真空泵回收，真空流量計(jì)回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，基于ANSYS軟軸型單晶爐提拉系統(tǒng)晃動(dòng)分析\人工晶體是太陽(yáng)能光伏發(fā)電產(chǎn)業(yè)和半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展所需的核心原材料,單晶爐是制造人工晶體的設(shè)備,目前的單晶爐大部分采用軟軸提拉系統(tǒng)。由于受到液/固相變規(guī)律的制約,單晶爐在實(shí)際工作中要求提拉機(jī)構(gòu)既要做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),又要做上升運(yùn)動(dòng),同時(shí)還要保持速度穩(wěn)定,對(duì)中性好,不能出現(xiàn)蠕動(dòng)和擺動(dòng)。提拉系統(tǒng)的晃動(dòng)會(huì)引起生長(zhǎng)瞬間微觀擴(kuò)散層的變化,造成有效分凝系數(shù)的變動(dòng),導(dǎo)致微觀摻雜劑濃度分布的徑向不均勻,引起對(duì)流情況不穩(wěn)定,導(dǎo)致生長(zhǎng)時(shí)固液界面過(guò)冷度的變化,為枝晶生長(zhǎng)提供條件[1],會(huì)嚴(yán)重地影響單晶體的內(nèi)在品質(zhì)。