硅片清洗機全自動硅片清洗機單片晶圓清洗機廠家

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         晶圓清洗機介紹

于清洗切制后之品片(Wafor)或玻璃片表面塵

高速高心脫水，工件表面無水痕殘留

清洗流程:二流體滑洗(可分段設置)-高心干爆

采用二流體清洗裝量，能有效的提高清洗效果

配備除靜電離子風蘇統

選配毛刷清洗功能

配備空氣過濾系統，使用壓縮空氣更加油凈

整體不銹鋼鏡面機身堅因對用，附酸性、堿性等清洗液