在使用氧化鋁拋光液時，需要注意以下幾點：

1. 選擇適合的顆粒大小和穩定劑類型，根據需要進行調配。

2. 在拋光過程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時間，以避免對材料造成損傷。

3. 定期檢查拋光液的質量和穩定性，及時更換或補充添加。

氧化鋁拋光液作為一種常用的表面處理劑，具有良好的拋光效果和穩定性。正確選擇和使用拋光液，可以提高材料的表面質量和光潔度，達到預期的拋光效果。

氧化鋁拋光液適用于金相和巖相研磨、拋光外，還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產品的高光潔度表面的研磨及拋光。極細的磨料能夠得到需要的超精拋光平面。

使用方法:

1.在配比好的溶液里面直接攪拌均勻，到攪拌分散開為止(5~10分鐘)。
2.按照1:3比例稀釋，在耐堿容器中先加水再加拋光液，攪拌至完全懸浮為止。
3.根據使用方式調拋光機的轉速:a)單面拋光:50-70RPM。b)雙面拋光:20-30RPM。
4.調拋光機的壓力:380-400g/cm2(單拋)、250-280g/cm2(雙拋)。
5.選擇拋光墊:聚氨酯，邵氏A硬度在85以上。

納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環使用壽命長、易清洗、通用性好等特點，適用于半導體碳化硅晶圓的CMP拋光。

氧化鋁拋光液，涉及半導體碳化硅晶圓拋光材料制備技術領域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調節劑0.1?10、余量為高純水；其制備過程為：①備料；②磨料預處理；③混合；④pH值調節；⑤高壓均質。