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廈門光刻膠 美國光刻膠
厚度范圍?：專為15-30μm厚膜設(shè)計(jì)，通過化學(xué)放大作用實(shí)現(xiàn)?低曝光劑量?（顯著低于傳統(tǒng)厚膠）和?快速顯影?（顯影時(shí)間縮短50%以上）
?深寬比與陡直度?：光刻后形成?高深寬比結(jié)構(gòu)?，側(cè)壁接近垂直（角度偏差≤5°），適用于精密微納加工
?工藝簡化?：無需N2脫氣和再水化延遲，軟烘烤時(shí)間短（常規(guī)厚膠的1/3）
