美國(guó)光刻膠AR300-80new光刻膠增粘劑規(guī)格款式

廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠AR 300-80new是一種專為電子元器件制造設(shè)計(jì)的光刻膠增粘劑，由Microchem公司生產(chǎn)。該產(chǎn)品主要用于提高光刻膠與基材之間的附著力，具有以下特點(diǎn)：?附著力強(qiáng)?：能有效增強(qiáng)光刻膠與各種基材的粘接性能?品質(zhì)穩(wěn)定?：生產(chǎn)工藝嚴(yán)格，性能穩(wěn)定可

2025年09月06日 18:28:00

美國(guó)光刻膠Lift-off光刻膠LOL2000半導(dǎo)體材料

廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠LOL2000是一種專為lift-off工藝設(shè)計(jì)的紫外光刻膠，屬于高深寬比光刻膠系列。該產(chǎn)品在半導(dǎo)體制造和微電子加工領(lǐng)域廣泛應(yīng)用，特別適用于需要高陡直度圖形的工藝場(chǎng)景。適用光譜范圍：g/h/i-Line(130nm-300nm)分辨率：適用于0.5μm雙層膠工藝

2025年09月06日 17:56:32

美國(guó)光刻膠KMPR系列屏蔽涂層光刻膠節(jié)省原料

廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠高深寬比成像能力?：深寬比可達(dá)>5:1，這意味著在相同面積上可以實(shí)現(xiàn)更高的結(jié)構(gòu)密度，從而減少單位面積的光刻膠用量?單次旋涂厚膜技術(shù)?：?jiǎn)我恍抗に嚳蛇_(dá)100微米膜厚，減少了多層涂布的需求?的噴涂均勻性?：噴涂均勻性有助于減少原料

2025年09月06日 16:40:38

美國(guó)光刻膠DOWBCB3022-5T液體光刻膠半導(dǎo)體制造用

廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠類型：負(fù)性光刻膠耐溫性能：可耐受180℃高溫厚度范圍：0.1~200μm化學(xué)穩(wěn)定性：耐刻蝕性能高深寬比結(jié)構(gòu)能力的垂直度特性良好的耐化學(xué)腐蝕性半導(dǎo)體封裝中的介電層材料微電子器件加工中的絕緣層制備微納結(jié)構(gòu)制作晶圓級(jí)封裝(WLP)技術(shù)應(yīng)用

2025年09月06日 16:27:59

DMK331-250-1602-1-5-100壓力變送器小巧型擴(kuò)散硅液體氣體壓力傳感器哪里好

DMK331-250-1602-1-5-100壓力變送器小巧型擴(kuò)散硅液體氣體壓力傳感器哪里好 壓力變送器是工業(yè)實(shí)踐中為常用的一種傳感器，其廣泛應(yīng)用于各種工業(yè)自控環(huán)境，涉及水利水電、鐵路交通、智能建筑、生產(chǎn)自控、航天、軍工、石化、油井、電力、船舶、機(jī)床、管道等眾多行

2025年09月06日 16:27:33

美國(guó)光刻膠光刻膠去膠液抗蝕劑剝離液材料兼容性好

廈門(mén)光刻膠 美國(guó)光刻膠不含ODS（臭氧層破壞物質(zhì)），符合歐盟RoHS標(biāo)準(zhǔn)成分環(huán)保，降低生產(chǎn)過(guò)程中的環(huán)境風(fēng)險(xiǎn)對(duì)襯底材料及金屬布線無(wú)腐蝕性，確保工藝安全性對(duì)Cu膜層、Al膜層和ITO制程等多制程兼容，降低工藝復(fù)雜性特殊添加劑體系（如Al緩蝕劑、金屬電位調(diào)節(jié)劑）

2025年09月06日 16:21:49