- 信息報價
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旋轉靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的,里面裝有靜止不動的磁體,以慢速轉動。 濺射靶材用于磁控濺射鍍膜,濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。 在被濺射的靶極(陰極)與陽11月08日
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旋轉靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的,里面裝有靜止不動的磁體,以慢速轉動。 濺射靶材用于磁控濺射鍍膜,濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。 在被濺射的靶極(陰極)與陽10月22日
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鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,用于高能激光09月12日
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鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。 鉬靶材純度:99.9% ,99.99% 規格:圓形靶,板靶,旋轉靶 鉬靶材廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業,適用所..09月12日
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旋轉靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的,里面裝有靜止不動的磁體,以慢速轉動。 濺射靶材用于磁控濺射鍍膜,濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。 在被濺射的靶極(陰極)與陽08月16日
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旋轉靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的,里面裝有靜止不動的磁體,以慢速轉動。 濺射靶材用于磁控濺射鍍膜,濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。 在被濺射的靶極(陰極)與陽08月04日
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800.00元氧化鋅鋁靶材AZO 陶瓷濺射靶材 透明導電薄膜靶材 AZO靶材 純度:99.99% 成分:ZnO:Al2O3=98:2wt%或97:3wt% 致密度:大于95% 尺寸:常見2英寸,3英寸等,其他尺寸可定做 顆粒:1-3mm..12月13日
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260.00元氧化鋁,化學式Al2O3。是一種高硬度的化合物,熔點為2054℃,沸點為2980℃,在高溫下可電離的離子晶體,常用于制造耐火材料。 工業氧化鋁是由鋁礬土(Al2O3·3H2O)和硬水鋁石制備的,對于08月27日
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1000.00元金源新材供應高純鋁顆粒 鋁粒Al Pellet 鋁靶材 名稱 鋁 原子量 26.98 熔 點 660℃ 沸 點 2467℃ 密度 2.7 g/cm3 顏色 銀白色 蒸發溫度 1220℃ 鋁是一種銀白色輕金屬,有很好的延展性..12月13日
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5N6N高純鋁顆粒真空蒸發材料鍍膜鋁靶材噴鍍材料 高純鋁的性能與應用 1、 性能 (1) 有抗外界反應物的特征: 高純鋁具有很強的抗外界反應物的特征, 即表現出來的是具有很強的抗腐蝕能力05月17日
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300.00元高純度氧化鈮旋轉濺射靶材(NbOx)平面鍍膜氧化鈮靶材 名稱:氧化鈮旋轉濺射靶 NbOx 純度:99.99% 相對密度:≥95% 工藝:真空等離子熱噴涂技術 規格:(max)4000mm 壁厚:3-20mm 公..08月15日
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鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。 鉬靶材純度:99.9% ,99.99% 規格:圓形靶,板靶,旋轉靶 鉬靶材廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業,適用所..06月01日
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旋轉靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的,里面裝有靜止不動的磁體,以慢速轉動。 濺射靶材用于磁控濺射鍍膜,濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。 在被濺射的靶極(陰極)與陽06月01日
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旋轉靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的,里面裝有靜止不動的磁體,以慢速轉動。 濺射靶材用于磁控濺射鍍膜,濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。 在被濺射的靶極(陰極)與陽06月01日
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旋轉靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的,里面裝有靜止不動的磁體,以慢速轉動。 濺射靶材用于磁控濺射鍍膜,濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。 在被濺射的靶極(陰極)與陽05月22日
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2000.00元鄭州酒店大堂鈦金鋁板鏤空雕花旋轉樓梯護欄廠家,佛山市鑫踏金屬制造鋁板雕刻樓梯護欄系列,其表面鍍顏色有黃鈦金、玫瑰金、香檳金、黑鈦金、古銅金等彩色;擁有等離子專用鋁板雕刻09月06日
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所有樓梯護欄中當旋轉樓梯護欄較難做,我們一定要專業的量好每跑樓梯旋轉處的規格,不能有一點點誤差,否則是裝不上去的,眾鈺五金在鋁板旋轉樓梯護欄談單上,我們是收取相對比較少05月27日
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2668.00元佛山禪城區眾鈺金屬制品廠為您提供歐式鋁藝雕花鏡面護欄 訂制k金鏡面旋轉鋁藝護欄作用圖定做鋁板雕琢水鍍紅古銅鏤空花紋護欄,鋁板雕琢鏤空外型時尚典雅,組裝方便美觀,具有很強的藝04月16日
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武漢鑫明誠機電設備有限公司供應德國Kubler編碼器, KUBLER旋轉編碼器,KUBLER光電編碼器,KUBLER磁性編碼器,KUBLER拉繩編碼器等產品。歡迎各新老客戶來電選購!KUEBLER(庫伯勒)公司是有..09月10日
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