- 信息報價
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158.00元銀離子無機抗菌劑，殼聚糖整理劑，布阻燃劑，防螨抗菌整理劑 基本性狀 組 分 銀離子復合化合物 外 觀 淡黃色澄清液體 PH 值 4.0~6.0（10%的水溶液） 銀化合物含..08月30日 -
158.00元銀離子無機抗菌劑，功能整理劑，防水整理劑，布料防螨劑 基本性狀 組 分 銀離子復合化合物 外 觀 淡黃色澄清液體 PH 值 4.0~6.0（10%的水溶液） 銀化合物含量 ..08月30日
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158.00元銀離子無機抗菌劑，功能整理劑，防水整理劑，布料防螨劑 納米銀整理劑Silv9700處理織物的方法可以采用浸軋、浸漬等，具體用量和用法根據(jù)織物的用途、種類、組成，及加工設(shè)備的不同而08月30日
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158.00元銀離子無機抗菌劑，衣料抗菌劑，消臭劑，布抗菌劑 納米銀整理劑Silv9700處理織物的方法可以采用浸軋、浸漬等，具體用量和用法根據(jù)織物的用途、種類、組成，及加工設(shè)備的不同而異。通08月30日
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158.00元銀離子無機抗菌劑，紡織抗菌消臭劑，防霉防菌防螨劑，紡織抗菌防臭劑 PH 值 4.0~6.0（10%的水溶液） 銀化合物含量 ﹥4% 密度（20℃） 1.02克/cm3（20℃） 離子性 ..08月30日
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158.00元銀離子無機抗菌劑，紡織抗菌消臭劑，防霉防菌防螨劑，紡織抗菌防臭劑 基本性狀 組 分 銀離子復合化合物 外 觀 淡黃色澄清液體 PH 值 4.0~6.0（10%的水溶液） ..09月09日
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130.00元衣料抗菌劑，銀離子無機抗菌劑，鞋用抗菌劑，針織品防螨蟲劑 赫特化工基本性狀 組 分 天然甲殼質(zhì)改性高分子化合物 外 觀 無色至淡黃色透明液體 PH 值 7.0~8.0 閃 ..08月30日
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350.00元納米銀抗菌劑 醫(yī)療器具抗菌劑 LF8801新型無機抗菌殺菌劑是由本公司自主開發(fā)、在納米材料基礎(chǔ)上由無機離子交換體與具有較強殺菌能力的銀離子化合制得的產(chǎn)品，是一種集安全性、廣譜性為01月09日
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蚊帳防蟲處理劑，蓄熱暖感加工劑，銀離子無機抗菌劑本公司還提供符合世界衛(wèi)生組織、美國、歐洲、日本、東南亞等地區(qū)客戶特定需要的防蚊蟲整理劑 和配方（要求客戶提供織物規(guī)格、要求的防蟲化..09月08日
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布抗菌劑，整理劑，銀離子無機抗菌劑、浸軋工藝： iSys AG 1～3克/升 交鏈劑AF628，或：ARRISTAN CPU 6～18克/升 柔軟劑 適量 注：化料溫度 0～40℃，pH 值 5.5～6.5。 工藝條件： 軋余率： 80..09月08日
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納米銀抗菌粉，銀離子無機抗菌劑，納米銀抗菌整理劑銀系抗菌粉TEB9600是無機銀系抗菌劑，主要成分為層狀磷酸鋯的銀離子化合物，外觀為白色粉末，平均粒徑1.0微米，可分散于水，、不燃、不爆。..09月06日
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138.00元防霉防菌防螨劑，甲殼素，銀離子無機抗菌劑，殺菌劑 基本性狀 組 分 防霉防螨抗菌化合物 外 觀 淡黃色透明液體 離子性 非離子 pH值 6～7（8..09月06日
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136.00元蘆薈護膚劑 床墊防螨劑 銀離子無機抗菌劑 防靜電助劑 使用蘆薈保濕整理劑WSA5016，推薦采用浸軋和浸漬工藝，也可用涂料印花和涂層工藝，使用方法簡單，不用添加新的設(shè)備，也不用更改原09月01日
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herst 納米銀抗菌粉，銀離子無機抗菌劑 銀系抗菌粉TEB9600是無機銀系抗菌劑，適用于化纖紡絲，加工過程順利，不堵網(wǎng)、不堵噴絲頭，適用于生產(chǎn)抗菌纖維、塑料、織物和薄膜制品，如硅酮膠、PVC..08月30日
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Herst 銀離子無機抗菌劑，納米銀抗菌劑：銀系抗菌粉TEB9605可分散于合成纖維切片、海綿、橡膠和塑料。TEB9605作用于細菌的細胞膜，使細胞膜缺損，通透性增加，細胞內(nèi)的胞漿物外漏，也可阻礙細..08月30日
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納米銀抗菌處理劑，納米銀抗菌粉，銀離子無機抗菌劑 銀離子抗菌整理劑iSys AG 基本性狀 功 用 抗菌劑，用于紡織品的抗菌整理 外 觀 類白色有粘度液體 組 分 基于特別銀離子化合物的分..08月30日
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150.00元納米銀抗菌粉，銀離子無機抗菌劑，納米銀抗菌整理劑 銀系抗菌粉TEB9605主要成分為銀系陶瓷粉體復合抗菌劑，外觀為淡白色粉末，有效成分含量為96 ± 1%，可分散于合成纖維切片、海綿、橡膠和塑..08月30日
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納米銀抗菌粉，銀離子無機抗菌劑，納米銀抗菌整理劑 銀離子抗菌整理劑iSys AG 基本性狀 功 用 抗菌劑，用于紡織品的抗菌整理 外 觀 類白色有粘度液體 組 分 基于特別銀離子化合物的分..08月30日
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紫外線遮斷整理劑，蓄熱暖感加工劑，銀離子無機抗菌劑 防紫外線整理劑HTUV76適用于棉、麻、絲、毛、滌綸、錦綸和無紡布等所有材質(zhì)面料的防紫外線和防曬整理，以及用于減少光化學降解而導致的..08月30日
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