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光靶材

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  • 研創新材碳化硅靶材碳化硅顆粒碳化硅粉末
    金剛砂又名碳化硅(SiC)是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生產綠色碳化硅時需要加食鹽)等原料通過電阻爐高溫冶煉而成。碳化硅在大自然也存在罕見的礦物,莫桑石。 碳化硅又稱碳硅石。在
    08月12日
  • 研創新材氮化硅靶材氮化硅顆粒氮化硅粉末
    氮化硅是一種重要的結構陶瓷材料。它是一種超硬物質,本身具有潤滑性,并且耐磨損,為原子晶體;高溫時抗氧化。而且它還能抵抗冷熱沖擊,在空氣中加熱到1000℃以上,急劇冷卻再急劇加
    08月12日
  • 研創新材氧化鐵靶材氧化鐵顆粒氧化鐵粉末
    氧化鐵,別名三氧化二鐵、燒褐鐵礦、燒赭土、鐵丹、鐵紅、紅粉、威尼斯紅(主要成分為氧化鐵)等。化學式Fe2O3,溶于鹽酸,為紅棕色粉末。其紅棕色粉末為一種低級顏料,工業上稱氧化鐵紅
    08月12日
  • 研創新材氧化鋅靶材氧化鋅顆粒氧化鋅粉末
    氧化鋅(ZnO),俗稱鋅白,是鋅的一種氧化物。難溶于水,可溶于酸和強堿。氧化鋅是一種常用的化學添加劑,廣泛地應用于塑料、硅酸鹽制品、合成橡膠、潤滑油、油漆涂料、藥膏、粘合劑
    08月12日
  • 供應高純度靶材,鍺靶材,銦靶材
    銦,鍺是重要的半導體材料,在半導體、航空航天測控、核物理探測、光纖通訊、紅外光學、太陽能電池、化學催化劑、生物醫學等領域都有廣泛而重要的應用
    10月21日
  • 真空鍍膜濺射鈦鋁靶材TiAl鈦鋁靶鈦鋁合金磁懸浮熔煉
    鋁含量1-50%范圍內可隨意定制,成分均勻,雜質含量少,廠家直供</a>
    12月23日
  • 金源新材供應高純鋁靶材鋁靶AlTarget鋁顆粒
    金源新材供應高純鋁靶材 鋁靶Al Target 鋁顆粒 名稱 鋁 原子量 26.98 熔 點 660℃ 沸 點 2467℃ 密度 2.7 g/cm3 顏色 銀白色 蒸發溫度 1220℃ 鋁是一種銀白色輕金屬,有很好的延展..
    07月22日
  • 氧化鋁靶材Al2O3Target陶瓷濺射靶材氧化鋁顆粒
    氧化鋁靶材Al2O3 Target 陶瓷濺射靶材 氧化鋁顆粒 氧化鋁靶材 三氧化二鋁靶材 純度:99.99% 分子式:Al2O3 分子量:101.96 CAS號:1344-28-1 密度:4 熔點:2045℃ 折射率:1.6-1.65..
    12月13日
  • 鉭靶材Ta1平面濺射鍍膜鉭靶高純度鉭靶價格
    鈮與鉭性質相似,均屬高熔點、高沸點稀有金屬,鋼灰色澤,富延展性和抗腐蝕性。鈮的熔點為2468 ℃,沸點為4742 ℃,密度為8.57g/cm3;鉭的熔點為3017℃,沸點為5425℃±100℃,密度為16.65g/cm3
    11月13日
  • 鉬靶材M01鉬濺射靶材鉬圓靶鉬方靶
    產品信息 品名:鉬圓靶,平面鉬圓靶,鉬靶材 牌號: 361,364,Mo1,MLa,TZM 標準: GB/T3876 密度:10.2 g/cm3 純度:99.95% 熔點:2610℃ 使用溫度:真空或惰性氣體下1700℃ ..
    11月13日
  • 高純錫靶材高純錫顆粒Sn99.99%
    高純錫靶材 高純錫顆粒 Sn 99.99% 北京金源新材科技有限公司專業從事高純金屬材料生產,采用電子束熔煉,區間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.99999%,領先國際
    07月31日
  • 高純釤塊釤顆粒釤靶材Sm99.9%
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    07月31日
  • 氧化銅靶材氧化亞銅靶材CuO靶材Cu2O靶材
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    07月31日
  • 碳化硅靶材碳化硅綠色粉末SiC靶材
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    07月31日
  • 高純銅靶材銅顆粒高純銅絲CuTarget
    高純銅靶材 銅顆粒 高純銅絲 Cu Target 北京金源新材科技有限公司專業從事高純金屬材料生產,采用電子束熔煉,區間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.99999%,..
    07月31日
  • 高純鑭靶材稀土金屬靶材La靶材高純鑭塊
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    07月31日
  • 氮化硅靶材四氮化三硅靶材Si3N4靶材
    氮化硅靶材 四氮化三硅靶材 Si3N4靶材 北京金源新材科技有限公司專業從事高純金屬材料生產,采用電子束熔煉,區間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.99999%,領先
    07月31日
  • 氧化錫靶材二氧化錫顆粒氧化錫顆粒SnO2
    氧化錫靶材 二氧化錫顆粒 氧化錫顆粒SnO2 金源新材科專業從事高純金屬材料生產,采用電子束熔煉,區間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.99999%,領先國際先進水
    07月31日
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    高純鎂靶材 金屬鎂顆粒 Mg Target 金屬濺射靶材 北京金源新材科技有限公司專業從事高純金屬材料生產,采用電子束熔煉,區間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.9
    07月31日
  • 氧化鎳靶材氧化鎳顆粒一氧化鎳NiO99.9%
    氧化鎳靶材 氧化鎳顆粒 一氧化鎳 NiO 99.9% 北京金源新材科技有限公司專業從事高純金屬材料生產,采用電子束熔煉,區間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.9999..
    07月31日
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