全自動氧化擴散爐信息我要推廣到這里
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擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業,對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統、控制系統、超凈化操作系統等組成。選用工控機微..09月27日
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擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業,對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統、控制系統、超凈化操作系統等組成。選用工控機微..11月04日
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888.00元用途: 立式擴散爐用于半導體生產工藝過程中的高溫擴散,燒結,退火等工藝。該系統具有儀表控制系統,具有高密封性和抗腐蝕性的高純氣路系統。立式退火爐主要適合于8英寸工藝硅片的處理。 ..08月29日
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888.00元主要技術指標: ★ 爐管數:1~4管 ★ 配工藝管口徑:Φ90~360 mm (3~12英寸) ★ 恒溫區長度: 760~1000 mm±1.0℃ (300~800℃) 760~1000 mm±0.5℃(800~1280℃) ★ 單點穩定性: ±1...08月29日
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全球與中國市場擴散爐趨勢展望與投資機遇分析報告2017年版 ※※※鴻※※※晟※※※信※※※合※※※研※※※究※※※院※※※※ 【最新修訂】:2017年10月 【出版機構】:鴻晟信合研10月23日
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面議氧化擴散爐性能特點: ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置,有效解決電網、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統,可儲存1000條曲線,每條曲線設置30步 ◆自動..10月29日
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8452.00元陽極氧化工藝設計 鋁氧化線設計/陽極氧化線銷售/全自動氧化線生產 上掛→酸洗除油(洗去表面油污)→水洗→堿蝕(洗去進一步去污,并清除表面自然氧化膜)→水洗→中和(去除表面05月04日
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888.00元設備用途:擴散爐用于大規模集成電路、電力電子、光電器件、光導纖維等行業的氧化、擴散、燒結、合金等工藝。 設備特點:單元組合方式。根據工藝的不同,可以在主機的基礎上配氣源柜、超凈..08月29日
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面議太陽能擴散爐主要滿足光伏電池生產線對125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進行擴散工藝。目前有第二代閉管擴散爐和第三代軟著陸擴散爐。? 技術指標: 可處理硅片尺寸:125mm×125mm..11月04日
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中國擴散爐行業發展前景與投資戰略規劃建議報告?2020~2025年 ≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤ 節假日24小時咨詢熱線:139 2163 9537(兼并微信)(隨時來電有09月12日
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