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面議主要技術參數 產品名稱 5KV/2A/10KW二極濺射鍍膜電源 WT10-5K 產品型號 WT10 產品品牌 躍遷 電源類型 全數控智能電源 輸入電壓： AC380V±10% 輸出 功率:..08月19日 -
1200.00元氧化鋁靶材Al2O3 Target 陶瓷濺射靶材 氧化鋁顆粒 氧化鋁靶材 三氧化二鋁靶材 純度：99.99% 分子式：Al2O3 分子量：101.96 CAS號：1344-28-1 密度：4 熔點：2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日
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1500.00元氧化鎂靶材 MgO靶材 氟化鎂靶材 陶瓷濺射靶材 北京金源新材科技有限公司專業從事高純金屬材料生產,采用電子束熔煉,區間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.907月31日
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中國濺射靶材發展現狀與投資規劃分析報告2020-2025年 ........................................... <報告編號>* 278568 <出版日期>* 2020年2月 <出版機構>* 中研華泰研究..09月09日
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7000.00元中國二硼化鈦濺射靶材市場深度調研及投資前景預測報告2024-2030年mm+mm+mmmm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm【報告編號】 66111【出版機構】:中智博研研究網【交付方式】:emil電子版或特快專..09月09日
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中國濺射靶材行業市場研究與未來發展前景分析報告2024-2030年【報告編號】55597【出版日期】2024年7月【交付方式】電子版或特快專遞【報告價格】【紙質版】:6500 【電子版】:6800 【合訂版】:..09月09日
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7000.00元2024-2030年中國鉻濺射靶材市場現狀研究分析與發展前景預測報告mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm+mm【報告編號】 50180【出版機構】:中研嘉業研究網【交付方式】:emil電子版或特快專遞..09月09日
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7000.00元中國濺射靶材用高純銅市場風險評估及投資潛力研究報告2024-2030年^^中^^贏^^信^^合^^研^^究^^網^^【全新修訂】：2024年6月【出版機構】：中贏信合研究網【內容部分有刪減·詳細可參中贏信合研..09月09日
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1180.00元鍍膜機械襯板清理的噴砂方式解析 在鍍膜機械的運行過程中，襯板會不斷積累各種雜質、沉積物以及氧化層等，這些物質會影響鍍膜的質量和襯板的使用壽命。噴砂清理作為一種且常用的方式，在鍍膜..09月09日
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2023-2029年中國太陽能電池用濺射靶材行業發展現狀及投資建議研究報告 【報告編號】:32950 【出版時間】:2023年5月 【出版機構】:中信博研研究網 【報告價格】:印刷版6500元 電子版6800元 印..09月09日
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2023-2029年中國鋁鎳合金濺射靶市場現狀調研與發展趨勢預測報告2023-2029年 【報告編號】:32134 【出版時間】:2023年5月 【出版機構】:中信博研研究網 【報告價格】:印刷版6500元 電子版6800..09月09日
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2023-2029年及中國氧化釓濺射靶行業發展前景與投資預測分析報告 【報告編號】:31805 【出版時間】:2023年5月 【出版機構】:中信博研研究網 【報告價格】:印刷版6500元 電子版6800元 印刷版+電..09月09日
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11000.00元鄭州 ULVAC愛發科MEX?N系列高頻電源MEX-2N-1k MEX-3N-1k匹配 RF 濺射 ULVAC愛發科MEX?N系列高頻電源MEX-2N-1k MEX-3N-1k匹配 RF 濺射 ULVAC愛發科MEX?N系列高頻電源MEX-2N-1k MEX-3N-1k匹..08月21日
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高純鎳合金鎳釩濺射鍍膜靶材93:7 wt%,蒸發鍍膜顆粒材料，鎳釩合金旋轉靶材 英文名稱：Nickel Vanadium (Ni-V) Sputtering Target，元素比例：Ni93% V7% 專注于生產具有最高密度和最小平均晶..08月15日
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300.00元蘇州南京廣東深圳北京高純鎳濺射鍍膜靶材蒸發鍍膜顆粒材料鎳旋轉靶材 英文名稱：Nickel Sputtering Target 公司生產的常見靶材如下： 金屬濺射鍍膜靶材: 鋁靶材Al，銻靶材Sb，鉍靶材Bi，..08月15日
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100000.00元倉庫大量多弧中頻鍍膜機 1.3×1.2米多弧中頻機，雙層不銹鋼爐體，2臺400擴散泵，30KW偏壓，2對中頻，1個可移動平面磁控濺射金靶 1300米多弧中頻機，雙層不銹鋼爐體，2臺400分子泵，30KW偏壓..07月02日
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165.00元其基本成分 Ni 95% Al 5%。狀態為經過預合金化的實心絲。 955制備的結合底層存在于基體與工作涂層之間，良好的冶金結合既提高了與基體的結 合力又提供了一個粗糙的表面給工作層，對于04月02日
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轉讓富士康真空濺射鍍膜設備4套平面濺射靶帶POLYPOLD深冷 由富士康閑置下來的磁控磁控濺射鍍膜設備帶雙門電阻蒸發系統 采用全不銹鋼爐體，設備直徑1400，高度1500mm采用全自動控制，全部02月19日
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臺灣富士康用濺射鍍膜設備轉讓雙門蒸發4靶濺射系統1.5米爐體 轉讓富士康真空濺射鍍膜設備4套平面濺射靶帶POLYPOLD深冷 由富士康閑置下來的磁控磁控濺射鍍膜設備帶雙門電阻蒸發系統 采用02月19日
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連續磁控濺射鍍膜線是一種用于在各種基材表面沉積鍍膜的設備。該設備使用范圍廣，沉積速率快，可實現多層沉積薄膜 1.應用領域廣泛應用于AR鍍膜、ITO、變色玻璃、太陽能電池等行業的不同領..11月27日
黃頁88網提供2025最新濺射價格行情，提供優質及時的濺射圖片、多少錢等信息。批發市場價格表的產品報價來源于共6家濺射批發廠家/公司提供的3113條信息匯總。
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