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蘇州進(jìn)口ASML極紫外光光刻機(jī)報關(guān)國際物流公司 蘇州進(jìn)口ASML極紫外光光刻機(jī)報關(guān)國際物流公司 ----------------------------------半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口資訊 隨著人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)等應(yīng)用的..01月02日
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上海港進(jìn)口ASML極紫外光光刻機(jī)報關(guān)沒有進(jìn)出口權(quán)怎么辦 上海港進(jìn)口ASML極紫外光光刻機(jī)報關(guān)沒有進(jìn)出口權(quán)怎么辦 ----------------------------------半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口資訊 2017年1月艾邁斯..01月02日
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荷蘭進(jìn)口光刻機(jī)報關(guān)海外段應(yīng)該注意到的問題 荷蘭進(jìn)口光刻機(jī)報關(guān)海外段應(yīng)該注意到的問題 ----------------------------------半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口資訊 據(jù)臺灣媒體報道，臺灣只剩下半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)還在..01月02日
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天津港進(jìn)口光刻機(jī)報關(guān)代理公司可以做到全球門到門 天津港進(jìn)口光刻機(jī)報關(guān)代理公司可以做到全球門到門 人類對信息的需求正在以前所未有的速度持續(xù)增長，而與此同時，信息和通訊技術(shù)（I01月02日
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蘇州進(jìn)口光刻機(jī)報關(guān)海外段應(yīng)該注意到的問題 蘇州進(jìn)口光刻機(jī)報關(guān)海外段應(yīng)該注意到的問題 ----------------------------------半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口資訊 全球十大人工智能芯片廠商：美國有6家上榜 ..01月02日
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荷蘭進(jìn)口極紫外光光刻機(jī)清關(guān)代理公司 荷蘭進(jìn)口極紫外光光刻機(jī)清關(guān)代理公司 ----------------------------------半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口資訊 全球十大人工智能芯片廠商：美國有6家上榜 NVIDIA（英..01月02日
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蘇州進(jìn)口ASML極紫外光光刻機(jī)報關(guān)代理公司以及流程 蘇州進(jìn)口ASML極紫外光光刻機(jī)報關(guān)代理公司以及流程 ----------------------------------半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口資訊 調(diào)研機(jī)構(gòu)TrendForce記憶體儲存..01月02日
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上海港進(jìn)口ASML極紫外光光刻機(jī)報關(guān)國際物流公司 上海港進(jìn)口ASML極紫外光光刻機(jī)報關(guān)國際物流公司 ----------------------------------半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口資訊 2017年1月艾邁斯半導(dǎo)體推出AS7221..07月25日
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天津港進(jìn)口極紫外光光刻機(jī)報關(guān)物流公司 天津港進(jìn)口極紫外光光刻機(jī)報關(guān)物流公司 ----------------------------------半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口資訊 隨著人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)等應(yīng)用的火熱發(fā)展，半..07月25日
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上海港進(jìn)口ASML極紫外光光刻機(jī)清關(guān)代理公司 上海港進(jìn)口ASML極紫外光光刻機(jī)清關(guān)代理公司 ----------------------------------半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口資訊 據(jù)臺灣媒體報道，臺灣只剩下半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)還在..07月25日
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1250000.00元螣芯HS系列國產(chǎn)半自動紫外光刻機(jī) 半自動光刻機(jī)-對準(zhǔn)模式 自動 本設(shè)備是我公司要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、MEMS、化合物半導(dǎo)體、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)，該機(jī)..09月08日
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全自動接觸式光刻機(jī)（紫外光刻機(jī)）4-12寸可選 （全國） 全自動單雙面接近式曝光機(jī)，兼容方形片光刻 4-12寸晶圓單、雙面曝光機(jī) 定制型 主要應(yīng)用：MEMS制造、CMOS圖像傳感器、存儲器、..09月08日
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3500000.00元更多資料咨詢上海：婁經(jīng)理 13122976482 產(chǎn)品名稱：URE-2000/35型紫外光刻機(jī) 國產(chǎn)光刻機(jī)-URE-2000/35高對準(zhǔn)精度光刻機(jī) 主要技術(shù)指標(biāo)： 曝光面積：100mm×100mm 分辨力：1um（膠厚1.5μm的正..09月08日
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2000000.00元EVG單雙面鍵合光刻機(jī) 更多技術(shù)咨詢及資料：13122976482 婁先生 上海（光刻機(jī)、620光刻機(jī)） EVG620 是一款非常靈活和可靠的光刻設(shè)備，可以是半自動也可以配置為全自動形式。EVG620既可以用..09月08日
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1000000.00元全自動接觸式光刻機(jī)可定制晶圓尺寸4-12寸 （上海） 全自動單 /雙面接近式曝光機(jī)，兼容方形片光刻 4-12寸晶圓單、雙面曝光機(jī) 靈活多選定制 主要應(yīng)用：MEMS制造、CMOS圖像傳感器、存儲器..09月08日
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1250000.00元HS9系高精密單雙面半自動光刻機(jī) （12寸） 半自動光刻機(jī)-對準(zhǔn)模式 自動 本設(shè)備是我公司要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、MEMS、化合物半導(dǎo)體、聲表面波器件的研制..09月08日
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中國EUV光刻機(jī)（極紫外光刻機(jī)）市場運(yùn)行態(tài)勢及投資戰(zhàn)略研究報告2024-2030年m+m中m+m贏m+m信m+m合m+m研m+m究m+m網(wǎng)m+m【全新修訂】：2024年7月【出版機(jī)構(gòu)】：中贏信合研究網(wǎng)【內(nèi)容部分有刪減·詳..09月08日
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7000.00元與中國浸沒式DUV光刻機(jī)市場動向觀察及前景預(yù)測研究報告2024-2030年mm+mm中mmm+mmm智mmm+信mmm+mm投mm+mm研mm+mm究mm+網(wǎng)mmm【全新修訂】：2024年7月【出版機(jī)構(gòu)】：中智信投研究網(wǎng)【內(nèi)容部分有..09月08日
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13000.00元1.基材篩選：選用光學(xué)均勻性達(dá)標(biāo)的石英玻璃或特種聚合物，材料折射率偏差需控制在±0.0005范圍內(nèi) 2.數(shù)控成型：采用離子束銑削技術(shù)進(jìn)行輪廓加工，表面粗糙度控制在Ra≤5nm 3.超精密拋光：..09月08日
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