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面議磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多資料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等長處。上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實..09月15日 -
39800.00元小型磁控濺射真空控制 KT-Z1650PVD水冷式濺射源，可實現高功率持續運行，有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬..04月09日
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面議磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar正離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶..03月26日
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100000.00元該設備 主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發三種技術融合一體，結合線離化源及泳沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細化。膜層各項性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金02月18日
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面議磁控濺射鍍膜是一種物理氣相沉積技術，它涉及使用高能量的離子（通常是氬離子）轟擊作為靶材的涂層材料，使其原子被濺射出來并沉積在工件表面形成薄膜。磁控濺射鍍膜檢測標準（部分）1、 T/GV..09月12日
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98000.00元二手韓一磁控濺射鍍膜機/雙靶磁控真空鍍膜機/磁控光學鍍膜機介紹 磁控濺射鍍膜技術是一種的表面處理技術，被廣泛應用于各種領域。它利用磁場和電場的相互作用，將靶材表面的電子從束縛狀態激..08月30日
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實力源多弧+中頻磁控濺射鍍膜機:內腔直徑1680*高度1200，主抽配置3臺400中科儀分子泵+1臺翠曼600羅次泵+2臺70南光機械泵，輔抽配置一臺翠曼300羅次泵+1臺70南光機械泵，配置10個佳寧250A弧電..07月02日
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150000.00元內直徑1900*高度1250實力源中頻磁控濺射鍍膜機兩套出售 配3套400中科儀分子泵，3套70旋片泵，一套羅次泵，4路ae流量計 鍍手機配件，鐘表，首飾，五金零件，貴金屬鍍顏色膜，光學磁控濺射膜07月02日
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10000.00元二手穩壓電源 中頻電源20-60KW電源 直流電源二手弧電源 真空鍍膜電源 輸入相數：單相或三相 電壓：220/380V 頻率：50Hz 輸入方式：4線（含地線） 輸出波形：直線 功率：30KW /60KW /..07月02日
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200.00元美國AE公司 中頻電源PE II 性能： 1.程序自動保護功能 2.控制信號源：模擬/數字端口或前面板控制 3.調節模式：功率，電壓或者電流 4.冷卻及周圍環境溫度：進口端冷卻水的溫度在+5℃到+30 ..07月02日
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39800.00元濺射儀 KT—Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能，配備有電壓，電流反饋，樣品臺旋轉，樣品高度可調節及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大..06月11日
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43800.00元金屬鍍膜磁控濺射薄膜監測，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，大功率1000w直流磁控濺射 單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與..08月18日
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39800.00元鄭州科探儀器設備是定制物理 氣相沉積（PVD）系統的設計者和制造商，客戶服務和售后服務。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經驗。其研發團隊在學界科學家和工程師的支持下，高度積極地開發新設..08月02日
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35600.00元離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元..03月22日
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38600.00元小型磁控濺射儀主要特點/優勢： ★ 玻璃鐘罩真空腔室，直觀的蒸發狀態和薄膜沉積現象觀察； ★ 兩組水冷式蒸發電極，可長時間穩定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發源設計； ★ 真空..02月11日
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1008.00元鈦鋁合金靶材我們能提供的成分：TiAl5 at%,TiAl10 at%,TiAl20 at%,TiAl25 at%,TiAl 30 at%,TiAl40 at%,TiAl50 at%等...我們能提供的純度：99.5%、99.7%、99.8%、99.9%、99.95%、99.99%我們的..12月16日
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黃頁88網提供2025最新磁控濺射設備價格行情，提供優質及時的磁控濺射設備圖片、多少錢等信息。批發市場價格表的產品報價來源于共4家磁控濺射設備批發廠家/公司提供的3123554條信息匯總。
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