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39800.00元鄭州科探儀器設備是定制物理 氣相沉積（PVD）系統的設計者和制造商，客戶服務和售后服務。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經驗。其研發團隊在學界科學家和工程師的支持下，高度積極地開發新設..06月14日 -
中國薄膜沉積裝置供需狀況與未來發展態勢報告2021-2027年 ************************************** [報告編號] 321803 [出版日期] 2021年8月 [出版機構] 中研華泰研究院 [交付方式] EMIL..09月05日
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2025-2031年中國薄膜沉積裝置市場動向調研及投資前景預測報告【報告編號】59975【出版日期】2025年08月【交付方式】電子版或特快專遞【報告價格】【紙質版】:6500 【電子版】:6800 【合訂版】..09月05日
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39800.00元鄭州科探儀器設備是定制物理 氣相沉積（PVD）系統的設計者和制造商，客戶服務和售后服務。擁有7年以上真空和薄膜沉積鍍膜技術經驗。氣相沉積濺射其研發團隊在學界科學家和工程師的支持下，高..06月14日
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該立式化學氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。 技術特征 采用先進的控制技術，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內沉積氣流穩定，壓力波動范圍小；01月15日
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立式化學氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳氫氣體（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。 技術特征 根據爐膛尺寸與結構設置溫區，溫度均勻性好； 采用特殊結構沉積室，密05月27日
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化學氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳氫氣體（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。 技術特征 可根據客戶需求設計尺寸，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求； 采用多05月27日
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SQM-220薄膜沉積控制器SQM-220薄膜沉積控制器高達6個通道的輸入和兩個額外的真空計通道，加上7英寸TFT顯示使SQM-220更加通用和方便。可以將傳感器的輸入分配給具有不同參數的不同材料，由DSP..09月05日
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SQM-220薄膜沉積控制器 SQM-220薄膜沉積控制器高達6個通道的輸入和兩個額外的真空計通道，加上7英寸TFT顯示使SQM-220更加通用和方便。可以將傳感器的輸入分配給具有不同參數的不同材料，由DS09月05日
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在半導體制造的薄膜沉積工藝CVD/PVD中，溫度控制的穩定性直接影響薄膜的均勻性、致密度及晶體結構，進而決定芯片的電學性能與可靠性。薄膜沉積冷水機作為工藝溫控的核心設備之一，通過成熟的..09月05日
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在半導體制造過程中，薄膜沉積工藝對溫度控制的精度要求苛刻，直接影響材料的晶體結構、薄膜均勻性及器件性能。薄膜沉積直冷機CVDchiller作為實現準確控溫的核心設備之一，其溫度控制能力依..09月05日
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在半導體制造工藝中，薄膜沉積技術是構建器件結構的關鍵環節之一，而CVD作為常用的薄膜沉積方法之一，其設備的溫度控制有助于提高薄膜質量。薄膜沉積冷水機CVDchiller作為CVD設備的配套溫控..09月05日
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