石英粉是用純石英（天然石英或熔融石英）經破碎、揀選、清洗、酸處理、高溫熔化、中碎、細磨、分級、除鐵等多道工序加工而成的符合使用要求的粉體。石英粉分干法和水法兩種生產方式，各種常規規格：100M，150M，200M，325M，400M，600M，1500M及2000M(M為目數)。另外也可按客戶要求加工異型規格，要求粒度分布的一般也可加工。石英粉不分等級，只分規格。因其具備白度高，無雜質、鐵量低等特點，故應用范圍廣。

用途：制造玻璃，耐火材料(爐料），冶煉硅鐵，涂料，橡膠填料，冶金熔劑，陶瓷，研磨材料，金屬表面處理等方面，在建筑中利用其有很強的抗酸性介質浸蝕能力，制取耐酸混凝土及耐酸砂漿。

石英粉分干法和水法兩種生產方式:
　　1、干法生產石英粉，主要設備有磕石機、粉碎機、振動篩等。其工藝流程為石英石礦料經過磕石機加工成較小石料，石料再經過粉碎機加工砂粒，然后經過振動篩篩分，在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫。
　　2、水法生產石英粉，主要設備有磕石機、石碾、烤房、振動篩、水路系統等。
　　其工藝流程大致如下：石英石礦料經過磕石機加工成較小石料，石料再經過石碾碾壓成砂粒，碾壓時不停的加水，水帶著砂粒流入沉淀池內，再把沉淀池內的砂粒運入烤房烘烤成干砂粒，然后再經過振動篩篩分，在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫。

石英粉的用途：用于玻璃行業可制造各種平板玻璃、夾絲玻璃、壓花玻璃、空心玻璃、泡沫玻璃、玻璃磚、各類包裝瓶罐，玻璃器皿如：啤酒瓶、玻璃杯、保溫瓶及裝飾品，可以制造光學玻璃，玻璃儀器，玻璃纖維，導電玻璃，玻璃不及防射線特種玻璃。鑄造行業用于造型用沙。冶金行業可作冶煉添加劑，熔劑及各種硅鐵合金。耐火材料行業可作窯用高溫磚，普通磚及耐火材料等。水泥行業可作沙子水泥配料，加氣混凝土，普通制品等?；瘜W工業可制造水玻璃、硅膠、干燥劑，石油精煉催化劑。制造外墻涂料，馬路畫線漆等。

石英粉、石英砂、硅微粉水分含量,根據相關標準，石英砂（微硅粉）水分含量如下:
1.超純石英砂含水量≤5%
2.高純度石英砂≤5%
3.特純石英砂≤5%
4.低鐵石英砂≤8%
5.精制石英砂≤8%
6.普通石英砂≤8%
7.球形二氧化硅微粉水分0.05～0.1%
8.電爐回收二氧化硅微粉水分
SF96≤1%,SF93≤2%,SF90≤2.5%,SF88≤3%,SF85≤3%
石英粉、石英砂、硅微粉水分含量檢測方法：
1.烘箱法 2.快速水分儀測定法

超細石英粉可以達到3000目，國內少數幾家生產，此類產品應用基本都屬于精細化工，屬于戰略資源。石英粉具體介紹如下：　　
由高純石英粉經的超細研磨工藝加工而成的產品我們一般稱之為硅微粉，也可稱為超細石英粉,是用途極為廣泛的無機非金屬材料.具有介電性能、熱膨脹系數低、導熱系數高、懸浮性能好等優點.因其具有優良的物理性能、的化學穩定性、特的光學性質及合理、可控的粒度分布。

優點：
1、顯著提高抗壓、抗折、抗滲、防腐、抗沖擊及耐磨性能，顯著延長砼的使用壽命，特別是在氯鹽污染侵蝕、硫酸鹽侵蝕、高濕度等惡劣環境下，可使砼的耐久性提高一倍甚至數倍?！　?br /> 2、具有保水、防止離析、泌水、大幅降低砼泵送阻力的作用。具有約5倍水泥的功效，在普通砼和低水泥澆注料中應用可降低成本。提高耐久性。　
3、提高澆注型耐火材料的致密性，在與Al2O3并存時，更易生成莫來石相，使其高溫強度，抗熱振性增強。　　
從而被廣泛應用于光學玻璃、電子封裝、電氣絕緣、陶瓷、油漆涂料、精密鑄造、硅橡膠、醫藥、化裝品、電子元器件以及超大規模集成電路、移動通訊、手提電腦、航空航天等生產領域。

微硅粉的細度：硅灰中細度小于1微米的占80%以上，平均粒徑在0.1～0.3微米，比表面積為：20～28m2/g。其細度和比表面積約為水泥的80～100倍，粉煤灰的50～70倍。石英粉常用規格為400目，800目，1000目，1500目及2000目。
微硅粉的生產方法主要有：
，三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中，與通入的干燥氯化氫氣體在280～330℃有氯化亞銅催化劑存在下進行氯化反應，反應氣體經旋風分離除去雜質，再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態三氯氫硅冷凝成液體，經粗餾塔蒸餾和冷凝，除去高沸物和低沸物，再經精餾塔蒸餾和冷凝，得到精制三氯氫硅液體。純度達到7個“9”以上、雜質含量小于1×10-7，硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內，用超純氫氣作還原劑，在1050～1100℃還原成硅，并以硅芯棒為載體，沉積而得多晶硅成品。
第二，用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，加熱到1900℃左右進行還原。此方法制得的硅純度為97%～98%，被稱作金屬硅。再將金屬硅融化后進行重結晶，用酸除去雜質，得到純度為99.7%～99.8%的金屬硅。如要將它做成半導體用硅，還要將其轉化成易于提純的液體或氣體形式，再經蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅，則需要進行進一步的提純處理。
第三， 用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，用1000～3000kVA開式電弧爐，加熱到1900℃左右進行還原。