關鍵詞 |
軟硬適中氧化鋁拋光液,氧化鋁拋光液供應商,無錫氧化鋁拋光液,粒徑均勻氧化鋁拋光液 |
面向地區 |
全國 |
穩定劑在拋光液中起到穩定和調節pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過程中團聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩定性。同時，穩定劑還能調節拋光液的酸堿度，以適應不同材料的拋光需求。
在使用氧化鋁拋光液時，需要注意以下幾點：
1. 選擇適合的顆粒大小和穩定劑類型，根據需要進行調配。
2. 在拋光過程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時間，以避免對材料造成損傷。
3. 定期檢查拋光液的質量和穩定性，及時更換或補充添加。
注意事項:
●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。
●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會影響去除率。
●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。
●拋光液的拋光效率，無結晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。
目前市場上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩定性好等優點，廣泛應用于藍寶石、碳化硅等材料的CMP技術中。Al2O3具有10余種晶型，其中常見的為α、β、γ等，一般選用50～200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。
使用與用量：
推薦用量為1～20％，使用者應根據不同體系經過試驗決定佳添加量。
◆ 以防少許沉淀，建議使用前先搖勻。
◆ 使用時，以不同濃度并據不同行業的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調制不同濃度。
當我們使用了這種拋光液之后，它可以通過純粹的機械拋光快速地去除材料，達到不錯的表面處理效果。而如果選用其它種類的拋光液，比如具有弱堿性的硅膠拋光液，那就要通過化學/機械的拋光方法與材料表面形成反應層。雖然柔軟的硅膠去除反應層也可以得到一個的表面，但是在工藝上無疑麻煩了許多。使用氧化鋁拋光液可以算是一次性拋光成型的。所以大家在大部分的情況下，比如我們在做金相時，往往都是使用這種可以通過純粹機械拋光的拋光液。
