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穩定劑在拋光液中起到穩定和調節pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過程中團聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩定性。同時，穩定劑還能調節拋光液的酸堿度，以適應不同材料的拋光需求。
氧化鋁拋光液適用于金相和巖相研磨、拋光外，還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產品的高光潔度表面的研磨及拋光。極細的磨料能夠得到需要的超精拋光平面。
化學機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術具有特的化學和機械相結合的效應，是在機械拋光的基礎上，根據所要拋光的表面，加入相應的化學試劑，從而達到增強拋光和選擇性拋光的效果。化學機械拋光液的性能是影響化學機械拋光質量和拋光效率的關鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡合劑、表面活性劑、磨料、pH調節劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會產生很大的影響。
目前市場上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩定性好等優點，廣泛應用于藍寶石、碳化硅等材料的CMP技術中。Al2O3具有10余種晶型，其中常見的為α、β、γ等，一般選用50～200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。
氧化鋁拋光液和研磨材料適用于金相、巖相、復合材料的研磨及拋光等表面處理：
1、手機殼，陶瓷，玻璃、水晶、光學玻璃等振動拋光（機器拋光、滾動拋光）、手動拋光（研磨拋光）等。人造寶石、天然寶石、鋯石、玉石、翡翠、瑪瑙。
2、單晶硅片等半導體、壓電晶學、光學晶體、光學玻璃、光學塑料、計算機硬盤、光學鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、
3、鋁材、銅材、不銹鋼等金屬表面研磨拋光。
4、汽車油漆打磨拋光，樹脂拋光等，油漆表面、亞克力、非鐵金屬的表面拋光。
5、 劃痕去除：寶石、首飾、微晶玻璃、鋁板、鋼板、塑料殼、壓克力等劃傷劃痕；汽車，船舶等表面油漆出現的輕微劃痕等只要涂上少許拋光液，用海綿布或者拋光墊等在其表面來回拋磨，很快就光亮如新，無一點擦痕。
使用與用量：
推薦用量為1～20％，使用者應根據不同體系經過試驗決定佳添加量。
◆ 以防少許沉淀，建議使用前先搖勻。
◆ 使用時，以不同濃度并據不同行業的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調制不同濃度。
