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濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。
在鍍膜領域,鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個重要因素。因此,當點評某薄膜樣品的功用時,需求檢測該薄膜樣品不同厚度下的功用。對于真空鍍膜的情形,這往往需求進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題:,不同次生長的樣品,儀器的狀況不同,以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次,真空鍍膜試驗裝取樣品需求重新進行真空的獲得,十分耗時。增加了出產和檢測的本錢。
與傳統的鍍膜方法相比,真空鍍膜屬于干法鍍膜,其主要方法有以下幾種:
1.真空蒸發
其原理是在真空條件下,用蒸發器加熱蒸發材料使其蒸發或升華,蒸發的離子流直接射向基片,在基片上沉積固體薄膜。
2.濺射涂層
濺射鍍膜是一種真空條件,在陰極施加2000V高壓激發輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg
3.離子電鍍法
即干式螺桿真空泵制造商已經推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術的基礎上發展起來的,所以具有兩者的工藝特點。在真空條件下,工作氣體或蒸發物質(膜材料)通過氣體放電被部分電離,蒸發物質或其反應物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過程中,襯底總是受到高能粒子的轟擊,這使得它非常干凈。
4.真空卷繞涂層
真空鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上進行連續鍍膜的技術,以實現柔性基板的某些功能性和裝飾性。