3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關予抽，開前機和
高閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。 1. 關高真空表頭、關分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。

真空蒸發鍍膜設備主要用于在經予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應用于工藝美術、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋后跟等領域,
JTPZ多功能鍍膜技術及設備（加有射頻等離子體聚合的蒸發鍍膜機），針對汽車、摩托車燈具而設計的，在一個真空室內完成蒸發鍍鋁和射頻等離子體鍍保護膜，這種鍍膜后燈具具有“三防”功能。射頻等離子體聚合膜還應用于光學產品、磁記錄介質、軍事保護膜；防潮增透膜；防銹抗腐蝕；耐磨增硬膜。

1．在真空鍍膜機運轉正常情況下，開動真空鍍膜機時，先開水管，工作中應隨時注意水壓。
2．在離子轟擊和蒸發時，應特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。
3．在用電子槍鍍膜時，應在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃，觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。
4．鍍制多層介質膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置，及時排除有害粉塵。
5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。
6．酸洗夾具應在通風裝置內進行，并要戴橡皮手套。
7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。
8．工作完畢應斷電、斷水。

真空蒸鍍金屬薄膜怎么樣？這個問題不能一概而論，要根據您的具體情況進行分析。這里簡單介紹一下真空蒸鍍金屬薄膜的特點，供您參考。鍍鋁薄膜與鋁箔復合材料相比具有以下特點：（1）大大減少了用鋁量，節省了能源和材料，降低了成本，復合用鋁箔厚度多為7～9pm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0．05n左右，其耗鋁量約為鋁箔的1/140～1/180，且生產速度可高達450m/min。（2）具有優良的耐折性和良好的韌性，很少出現針孔和裂口，無揉曲龜裂現象，因此對氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。（3）具有的金屬光澤，光反射率達到97%；且可以通過涂料

利摘要顯示，本申請關于一種真空鍍膜自動加料裝置，涉及真空鍍膜領域。該真空鍍膜自動加料裝置包括支架，支架上安裝有滑動機構，滑動機構上安裝有驅動機構以及加料機構，驅動機構的動力輸出端與加料機構傳動連接；加料機構的上方還安裝有儲料罐，儲料罐將粉料輸送至加料機構內，加料機構與外部管式爐的進料口接駁；其中，儲料罐上還安裝有攪拌機構，攪拌機構將儲料罐內的粉料均勻的輸送至加料機構內。實現了在CVD過程中，粉末狀態的蒸發材料（如派瑞林）少量、連續進入管式爐以進行后續的加熱、升華、裂解工藝，既滿足了蒸發材料的用量，又達到了實時動態調整進料量的目的，提升了鍍膜效果，并實現了一種以上的蒸發材料復合鍍膜的工藝需求。

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅動蒸發源，通過PID控制循環驅動擋板，保持蒸發速率。只要將儀器與系統控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的度是有限的，部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質量而不是其光學厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區域，從而對膜層造成重大誤差。
? ? 光學監控是高精密鍍膜的的監控方式，這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當)。度的改進源于很多因素,但根本的原因是對光學厚度的監控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長光學監控系統，是采用間接測控，結合汪博士開發的光學監控軟件，有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長。特別適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。