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對比幾個真空鍍膜機的檢漏方法：
氦質譜檢漏該工藝是真空鍍膜機真空檢漏技術里不可缺少的一種技術，因為檢漏率，簡單易使用，儀器設備反映靈敏，，不容易受別的氣體的影響，在檢漏中獲得了廣泛運用。氦質譜檢漏儀是依據質譜學基本原理，用氮氣作示漏氣體做成的氣密性檢測儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規(guī)構成的質譜分析室和吸氣系統(tǒng)及電氣一部分等構成。質譜分析室里的鎢絲發(fā)送出去的電子，在房間內不停地震蕩，并與房間內空氣和經漏孔進入到屋內的氦氣互相撞擊使其水解成共價鍵，這種氦離子在加快靜電場的作用下進入到磁場，因為洛倫茲力作用產生偏轉，產生圓弧狀軌道，更改加速電壓可使不一樣品質的離子通過磁場和接受縫抵達接收極而被檢驗。噴氦法、吸氦法是氦質譜檢漏儀在檢漏中經常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏，鍍膜機不需要停機，直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀，在懷疑有漏的地方噴氦氣，即可完成檢漏。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。
真空鍍膜工藝在信息存儲范疇中的運用薄膜資料作為信息記載于存儲介質，有其得天厚的優(yōu)勢：因為薄膜很薄能夠疏忽渦流損耗；磁化回轉極為敏捷；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀況簡單保持等。為了更精細地記載與存儲信息，必定要選用鍍膜技能。
