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分散盤帶動研磨介質(zhì)高速運動而產(chǎn)生摩擦和剪切，使物料得到研磨和分散。研磨室采用強制冷卻。有臥式砂磨機及立式砂磨機之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機和塔式砂磨機等。一般為濕式研磨。

物料在旋轉(zhuǎn)研磨盤作用下與研磨體混合并旋轉(zhuǎn)，經(jīng)與研磨體之間及與粉碎室各部分之間產(chǎn)生的研磨、剪切而粉碎。有臥式砂磨機及立式砂磨機之分，如圓筒形環(huán)隙式砂磨機和塔式砂磨機等。一般為濕式研磨。
生產(chǎn)不同品種的油墨，使用砂磨機的結(jié)構(gòu)形式也不同。大概遵守以下規(guī)律：凹版油墨生產(chǎn)一般使用銷棒（5-50升）或者盤式砂磨機（10-100升）。輪轉(zhuǎn)膠印油墨一般使用立棒式（5-130升）或臥盤式砂磨機（60-500升），而特高粘度單張紙油墨生產(chǎn)經(jīng)常使用高能量密度的錐形砂磨機或三輥機。噴繪油墨（墨水和顏料溶劑型）一般使用高能量密度的銷棒式（臥式或立式）和離心渦輪轉(zhuǎn)子

砂磨機目前物料適應(yīng)性廣、為、的研磨設(shè)備，研磨腔為狹窄，撥桿間隙小，研磨能量密集，配合的冷卻系統(tǒng)和自動控制系統(tǒng)，可實現(xiàn)物料連續(xù)加工連續(xù)出料，的提高了生產(chǎn)效率。

分散作用的目的有下列數(shù)種：

一. 以達到外表平坦，使分散在液體中的固體粒子微粒化。增加反射率，發(fā)生光澤并提高遮蓋率，如油漆，油墨，色膏等。

二 . 以提高反應(yīng)速率及均勻程度，使液體中懸浮之粒子表面積增加。如在樹脂中添加粒狀之硬化劑，或化學(xué)反應(yīng)中粉粒狀之原料。

三 . 延長沉淀時間，懸浮在液體中之微小粒子，達到臨時懸浮之目的，如水懸性農(nóng)藥，可增加散布面積延長藥效，或果汁如芭藥汁等。

納米砂磨機電機安裝在簡潔的機器框架上，通過V型皮帶來能量傳送；高精密隔離間隙具自潔功能，適用粒徑0.4~2mm研磨介質(zhì); 臥式納米砂磨機采用雙端面機械密封作為壓力阻抗裝置；錐形研磨腔間隙攪拌器，加工區(qū)域容積小，可降低產(chǎn)品交叉污染，易于更換產(chǎn)品；轉(zhuǎn)子、定子雙冷卻；研磨腔采用高耐磨材料；以壓力為動力的機械活塞用于改變研磨腔的體積，從而調(diào)節(jié)產(chǎn)品的質(zhì)量；控制面板整體嵌于機器框架上，所有控制鍵皆在其上；白色產(chǎn)品不會變灰。系統(tǒng)密封性好，磨損極低，散熱性好，生產(chǎn)能力高。錐形設(shè)計的研磨腔，使得磨珠在入料端沖擊強烈，物料在一進入研磨腔就大程度地得到研磨，從而得到穩(wěn)定的、細度的研磨效果。