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真空鍍膜設備存有著氣密性差的問題，假如鍍膜設備維護保養進行后，能做一次氣密性試驗，就可以規避許多不合格產品的造成，做到節省成本費用的效果。
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蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。
