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有些真空鍍膜機真空計的讀數,與氣體種類有關,比如熱偶計,電離真空計。選用適當的氣體或液體做示漏物質,這些真空計便成了探測器,一般鍍膜機上都有真空計,使用起來很方便,也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質有,二氧化碳,丁烷,酒精等熱偶計反應較慢,觀察要很仔細。用于電離計的示漏物質有氦,氬,酒精等。
真空系統是鍍膜機達到工藝條件的基本設備,其真空度達不到或者達到真空度速度慢,都有可能是由于存在漏點所致,所以真空卷繞鍍膜機設備的真空系統需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機通常采用氦質檢漏儀來查漏,主要用負壓法檢漏即將氦質譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機的真空系統,在可能泄漏地方噴氦檢漏。
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蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經歷成膜過程,終形成薄膜。
真空鍍膜工藝在傳感器方面的運用在傳感器中,多選用那些電氣性質相關于物理量、化學量及其變化來說,極為敏感的半導體資料。此外,其中大多數運用的是半導體的外表、界面的性質,需求盡量增大其面積,且能工業化、低報價制造、因而選用薄膜的狀況許多。
真空鍍膜機工藝在光學儀器中的運用大家了解的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀,以及平時生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開鍍膜技能,鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。
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