磁控濺射鍍膜靶材：
金屬鋯濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材 ，氮化物陶瓷濺射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材 ，硅化物陶瓷濺射靶材 ，硫化物陶瓷濺射靶材 ，碲化物陶瓷濺射靶材 ，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，化鉛靶材(PbAs)，化銦靶材(InAs)。
高純高密度濺射靶材有：
濺射靶材（純度：99.9%-99.999%）

磁控濺射原理：鋯靶在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場(chǎng)，同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負(fù)高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。 磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導(dǎo)電材料外，也可濺射非導(dǎo)電的材料，同時(shí)還司進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。

鋯換熱器產(chǎn)品介紹:
現(xiàn)在的搪瓷釜由于介質(zhì)的腐蝕性、反應(yīng)條件忽冷忽熱等問(wèn)題，總會(huì)出現(xiàn)這樣那樣的搪瓷層損壞。一旦出現(xiàn)爆瓷現(xiàn)象,搪瓷面的損壞會(huì)迅速擴(kuò)大，繁瑣的修補(bǔ),停產(chǎn),安全事故及環(huán)境污染等不可預(yù)計(jì)的損失一直困擾著國(guó)內(nèi)眾多化工企業(yè).
取代搪瓷釜的金屬鋯盤管換熱器,解決化工行業(yè)所使用的搪瓷釜爆瓷,搪瓷面的損壞，不易修復(fù)(或者修復(fù)成本高)而報(bào)廢的成本問(wèn)題.由于金屬鋯材優(yōu)良的導(dǎo)熱性和強(qiáng)耐腐蝕性,在加熱,冷卻兩道工序上有效的縮短了生產(chǎn)時(shí)間,并且它特有的強(qiáng)耐腐蝕性這一特點(diǎn),從而了生產(chǎn)中不被各種工況的腐蝕性所腐蝕的要求,在生產(chǎn)旺季為生產(chǎn)出貨,創(chuàng)造了寶貴的時(shí)間,并且提高了產(chǎn)量,真正實(shí)現(xiàn)換熱設(shè)備零維護(hù).
本產(chǎn)品已經(jīng)在國(guó)內(nèi),外大型農(nóng)藥化工,醫(yī)藥化工,石化等行業(yè)投入使用,反應(yīng)良好,歡迎有此需求,有此困擾的客戶來(lái)電咨詢,洽談,我公司將在時(shí)間回復(fù),配合.給予設(shè)備,技術(shù)上的支持.