濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個重要因素。因此，當點評某薄膜樣品的功用時，需求檢測該薄膜樣品不同厚度下的功用。對于真空鍍膜的情形，這往往需求進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀況不同，以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次，真空鍍膜試驗裝取樣品需求重新進行真空的獲得，十分耗時。增加了出產和檢測的本錢。

定期保養，有人會問常規保養和定期保養的區別?事實上，每個設備都有使用壽命。例如，用于擴散泵的硅油具有大約兩年的使用壽命。我們早點換掉它。這是浪費嗎?不，在生產中，設備故障是不可能發生的事情。做好日常維護和定期保養，不僅可以延長設備的使用壽命，還可以減少運行故障，提高生產效率。

真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無用的物質或能量”。多弧離子鍍膜機根據污染物的物理狀態可分為固態、氣態和液態，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學特性而言，它可以是離子態或共價態，無機態或有機態。

前期清洗真空鍍膜機可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機的很多小問題，對真空鍍膜機的工作效率和鍍膜質量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發射和轟擊。

與傳統的鍍膜方法相比，真空鍍膜屬于干法鍍膜，其主要方法有以下幾種:

　　1.真空蒸發

　　其原理是在真空條件下，用蒸發器加熱蒸發材料使其蒸發或升華，蒸發的離子流直接射向基片，在基片上沉積固體薄膜。

　　2.濺射涂層

　　濺射鍍膜是一種真空條件，在陰極施加2000V高壓激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg

　　3.離子電鍍法

　　即干式螺桿真空泵制造商已經推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術的基礎上發展起來的，所以具有兩者的工藝特點。在真空條件下，工作氣體或蒸發物質(膜材料)通過氣體放電被部分電離，蒸發物質或其反應物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過程中，襯底總是受到高能粒子的轟擊，這使得它非常干凈。

　　4.真空卷繞涂層

　　真空鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上進行連續鍍膜的技術，以實現柔性基板的某些功能性和裝飾性。