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真空鍍膜機生產線設備是目前制作真空條件應用為廣泛的真空設備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司從事真空鍍膜設備的研發與生產擁有經驗豐富的技術團隊及的售后服務隊伍為您解決設備在使用過程中遇到的任何問題。
真空鍍膜生產線設備真空主體——真空腔根據加工產品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應用多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔體由不銹鋼" target=_blank>不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅實等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。
PVD鍍膜涂層工藝中效果好的為離子鍍膜方式；此方法是利用電弧撞擊靶材，使靶材原子被激發出來，與反應性氣體反應，形成化合物沉積于工件表面的一種技術。爐內運行至高真空后，通入惰性氣體，加偏壓造成氬離子(Ar+)，及帶負電的電子(e-)，帶正電的氬離子會撞向通入偏壓為負極的基板底材，來清潔工件表面；之后再通入反應氣體，在靶材和基板底材間產生電漿，進行鍍膜作業。此一方式成膜速度快、密著性較佳，多用于切削刀具鍍膜涂層處理。
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