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臺積電和三星都宣布采用深紫外(EUV)光刻技。
臺積電已經投資新建5nm生產線，2020年后將啟動建設3nm制程工廠。三是圍繞摩爾定律的產品技術創新活躍。在半導體技術繼續延續摩爾定律發展的同時，以新材料、新結構、新器件為特點的摩爾定律為半導體產業提供了新的發展方向。
另一端是負極。
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