濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無用的物質或能量”。多弧離子鍍膜機根據污染物的物理狀態可分為固態、氣態和液態，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學特性而言，它可以是離子態或共價態，無機態或有機態。

暴露在空氣中的真空鍍膜機表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現象、化學反應、浸出干燥過程、機械處理、擴散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。

　　①油脂:潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;

　　②水基類:操作時的手汗、吹氣時的水蒸氣、唾液等。

　　③表面氧化物:材料長時間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;

　　④酸、堿、鹽類物質:清洗時的殘留物質、手汗、水中的礦物質等。

　　⑤環境空氣中的拋光殘渣、灰塵和其他有機物等。

真空是支撐真空鍍膜機運行的環境，尤其是需要高真空度的設備。通常，我們需要達到高的真空度，而抽氣系統的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統之外，真空鍍膜設備的操作還有一點，就是工件的脫氣。有些工件內部有大量氣體和水分，在設備加熱時會排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內部機械結構，導致設備無法正常運行。

與傳統的鍍膜方法相比，真空鍍膜屬于干法鍍膜，其主要方法有以下幾種:

　　1.真空蒸發

　　其原理是在真空條件下，用蒸發器加熱蒸發材料使其蒸發或升華，蒸發的離子流直接射向基片，在基片上沉積固體薄膜。

　　2.濺射涂層

　　濺射鍍膜是一種真空條件，在陰極施加2000V高壓激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg

　　3.離子電鍍法

　　即干式螺桿真空泵制造商已經推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術的基礎上發展起來的，所以具有兩者的工藝特點。在真空條件下，工作氣體或蒸發物質(膜材料)通過氣體放電被部分電離，蒸發物質或其反應物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過程中，襯底總是受到高能粒子的轟擊，這使得它非常干凈。

　　4.真空卷繞涂層

　　真空鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上進行連續鍍膜的技術，以實現柔性基板的某些功能性和裝飾性。

在檢漏過程中，為了做好檢漏工作，有必要注意一些問題。

，檢查虛漏是否仍為實漏，因為工件數據加熱后會出現不同程度的氣體，有可能被誤認為是從外部流出的氣體，這就是虛漏，要消除這種情況。

第二，測試真空室的氣密性功能，確保氣密性功能符合要求。

三、檢查漏孔的大小、形狀、方位、漏速，編制解決方案并實施。

四、得出檢測儀器檢漏的檢出率和靈敏度，要檢查刻度的泄漏情況，防止一些泄漏孔被疏忽，提高泄漏檢測的準確性。

五、掌握檢漏儀的反應時間和消除時間，把握好時間，檢漏儀操作到位，時間少，檢漏功能一定差，時間長，浪費檢漏氣和人工電。

六、還要防止泄漏堵塞，有時由于操作失誤，在檢漏過程中，一些灰塵或液體將泄漏堵塞，認為孔的方向沒有泄漏，但當由于內外壓差進展或其他原因導致泄漏孔未堵塞時，泄漏仍在那里。