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真空鍍膜機生產線設備是目前制作真空條件應用為廣泛的真空設備,一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司從事真空鍍膜設備的研發與生產擁有經驗豐富的技術團隊及的售后服務隊伍為您解決設備在使用過程中遇到的任何問題。
真空鍍膜機生產線設備輔助抽氣系統:排氣系統為鍍膜機真空系統的重要部分,主要有由機械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴散泵三大部分組成。此排氣系統采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為:機械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態,為擴散泵后繼抽真空提供前提,之后當擴散泵抽真空腔的時候,機械泵又配合油擴散泵組成串聯,以這樣的方式完成抽氣動作。
隨著鍍膜技術的快速增長,各種類型的真空鍍膜設備生產線也開始逐漸出現。但是論起薄膜的均勻性,恐怕所有的真空設備鍍制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響,現在我們就濺控濺射鍍膜機來看看造成不均勻的因素有哪些。
真空鍍膜設備生產線它的運作原理其實很簡單。就是通過真空狀態下正交磁場使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。如此車燈鍍膜機廠家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關的有真空狀態、磁場、氬氣這三個方面。真空狀態就需要抽氣系統來控制的,每個抽氣口都要同時開動并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費資源,不過有真空機的存在,要控制好還是不成問題的。
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PVD鍍膜涂層工藝中效果好的為離子鍍膜方式;此方法是利用電弧撞擊靶材,使靶材原子被激發出來,與反應性氣體反應,形成化合物沉積于工件表面的一種技術。爐內運行至高真空后,通入惰性氣體,加偏壓造成氬離子(Ar+),及帶負電的電子(e-),帶正電的氬離子會撞向通入偏壓為負極的基板底材,來清潔工件表面;之后再通入反應氣體,在靶材和基板底材間產生電漿,進行鍍膜作業。此一方式成膜速度快、密著性較佳,多用于切削刀具鍍膜涂層處理。
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