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化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。
暴露在空氣中的真空鍍膜機表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現象、化學反應、浸出干燥過程、機械處理、擴散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。
①油脂:潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;
②水基類:操作時的手汗、吹氣時的水蒸氣、唾液等。
③表面氧化物:材料長時間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;
④酸、堿、鹽類物質:清洗時的殘留物質、手汗、水中的礦物質等。
⑤環境空氣中的拋光殘渣、灰塵和其他有機物等。
前期清洗真空鍍膜機可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機的很多小問題，對真空鍍膜機的工作效率和鍍膜質量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發射和轟擊。
