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真空鍍膜機詳細鍍膜方法如下：
1、檢查真空鍍膜設備各操作控制開關是否在"關"位置。
2、打開總電源開關，真空鍍膜設備送電。
3、低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。
4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位，無雜質污物。
5、落下鐘罩。
6、啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵。
7、開復合真空計電源。
1）左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。
2）低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至110mA時，左旋鈕"1"旋轉至指向2區段測量位置。
8、當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
9、真空鍍膜設備開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。
10、低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥。
鍍膜機工藝在集成電路制造中的運用，鍍膜機晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶硅、鋁、銅及其合金）等多是選用CVD技能、PVCD技能、真空蒸騰金屬技能、磁控濺射技能和射頻濺射技能。可見氣相堆積術制備集成電路的核心技能之一。
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