多功用磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個薄膜生長和器材制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氣氛的系統(tǒng)中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高功用、大面積有機光電器材和電路的制備。

真空鍍膜機的污染物可以定義為“任何一種無用的物質或能量”。多弧離子鍍膜機根據(jù)污染物的物理狀態(tài)可分為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)，污染物以薄膜或顆粒的形式存在。就其化學特性而言，它可以是離子態(tài)或共價態(tài)，無機態(tài)或有機態(tài)。

暴露在空氣中的真空鍍膜機表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現(xiàn)象、化學反應、浸出干燥過程、機械處理、擴散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。

　　①油脂:潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;

　　②水基類:操作時的手汗、吹氣時的水蒸氣、唾液等。

　　③表面氧化物:材料長時間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;

　　④酸、堿、鹽類物質:清洗時的殘留物質、手汗、水中的礦物質等。

　　⑤環(huán)境空氣中的拋光殘渣、灰塵和其他有機物等。

真空是支撐真空鍍膜機運行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設備。通常，我們需要達到高的真空度，而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外，真空鍍膜設備的操作還有一點，就是工件的脫氣。有些工件內部有大量氣體和水分，在設備加熱時會排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內部機械結構，導致設備無法正常運行。

在鍍膜的過程中，由于工件內氣體的受熱膨脹，很容易使已經(jīng)鍍膜的薄膜開裂。當然，這種情況的概率取決于工件本身的物理性質。比如容易膨脹的，比如塑料，概率就比較高，而對于堅硬的材料，比如金屬，概率就比較低，但也不能忽略。因此，工件的除氣是非常必要的。

在檢漏過程中，為了做好檢漏工作，有必要注意一些問題。

，檢查虛漏是否仍為實漏，因為工件數(shù)據(jù)加熱后會出現(xiàn)不同程度的氣體，有可能被誤認為是從外部流出的氣體，這就是虛漏，要消除這種情況。

第二，測試真空室的氣密性功能，確保氣密性功能符合要求。

三、檢查漏孔的大小、形狀、方位、漏速，編制解決方案并實施。

四、得出檢測儀器檢漏的檢出率和靈敏度，要檢查刻度的泄漏情況，防止一些泄漏孔被疏忽，提高泄漏檢測的準確性。

五、掌握檢漏儀的反應時間和消除時間，把握好時間，檢漏儀操作到位，時間少，檢漏功能一定差，時間長，浪費檢漏氣和人工電。

六、還要防止泄漏堵塞，有時由于操作失誤，在檢漏過程中，一些灰塵或液體將泄漏堵塞，認為孔的方向沒有泄漏，但當由于內外壓差進展或其他原因導致泄漏孔未堵塞時，泄漏仍在那里。