磁控濺射原理：鋯靶在被濺射的靶極(陰極)與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場(chǎng)，同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負(fù)高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。 磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導(dǎo)電材料外，也可濺射非導(dǎo)電的材料，同時(shí)還司進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。

各種類(lèi)型的濺射薄膜材料，鉿靶，鋯靶在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來(lái)，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過(guò)程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造；在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對(duì)所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來(lái)越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。
市場(chǎng)概況
日本。就美國(guó)而言．約有50家中小規(guī)模的靶材制造商及經(jīng)銷(xiāo)商，其中大的公司員工大約有幾百人。不過(guò)為了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服務(wù)，全球主要靶材制造商通常會(huì)在客戶所在地設(shè)立分公司。近段時(shí)間，的一些國(guó)家和地區(qū)，如臺(tái)灣．韓國(guó)和新加坡，就建立了越來(lái)越多制造薄膜元件或產(chǎn)品的工廠，如IC、液晶顯示器及光碟制造廠。
對(duì)靶材廠商而言，這是相當(dāng)重要的新興市場(chǎng)。中國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展也是與日俱增，不斷的擴(kuò)大自己的規(guī)模和生產(chǎn)技術(shù)，國(guó)內(nèi)一線生產(chǎn)制造靶材的已經(jīng)達(dá)到國(guó)外的技術(shù)水平。2010年，日本三菱公司就在中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)建立了光碟塒靶材的生產(chǎn)基地，可以滿足臺(tái)灣50%的靶材需要。

名　　稱：鋯管
規(guī)　　格：Φ8.0—89.0（外直徑）╳ 1.0—10.0（壁厚）╳ L（長(zhǎng)）mm
狀　　態(tài)：退火
主要性能： 抗拉強(qiáng)度HB>379Mpa 導(dǎo)熱率=0.040Cal/cm2 （可以彎成需要的形狀）
應(yīng)用領(lǐng)域：油箱盤(pán)管、殼管熱交換器、熱虹吸管、蒸發(fā)器、卡口加熱器和人造絲絲囊、管殼式換熱器,列管式換熱器,加熱管,管式預(yù)熱器、化工設(shè)備反應(yīng)釜盤(pán)管等。
例如：在蒸氣壓力為239000Pa，溫度為373K，管中流體含5%硫酸、3%、6%硫酸鈉的條件下，用鋯盤(pán)管代替鉛盤(pán)等，使用壽命在10年以上。

我們?cè)诙喾N農(nóng)藥設(shè)備上進(jìn)行過(guò)工業(yè)鋯的應(yīng)用研究，如在農(nóng)藥反應(yīng)罐中進(jìn)行了鋯的實(shí)際應(yīng)用與掛片試驗(yàn)。農(nóng)藥水解反應(yīng)的條件為：20%硫酸+甲萘胺；溫度220-250℃；15個(gè)大氣壓（1520kPa)，一個(gè)流程時(shí)間為7h，在此條件下設(shè)備腐蝕嚴(yán)重，1mm厚普通鋼板，反應(yīng)后即腐蝕穿孔。原采用罐內(nèi)搪12- 14mm厚的鉛層為防腐層，則易污染環(huán)境，鉛的抗腐蝕也較差，一個(gè)搪鉛反應(yīng)罐，僅能使用50-60批料即穿孔漏液。鋯掛片試驗(yàn)條件為：生產(chǎn)介質(zhì)20%硫酸+甲萘胺；生產(chǎn)200-250℃；壓力14-15個(gè)大氣（1419- 1520kPa)。結(jié)果表明，隨時(shí)間增加，鋯母材與焊縫區(qū)氧含量稍有增加，但增加速度較緩，對(duì)鋯的力學(xué)性能未引起惡化。而氫含量卻在這種介質(zhì)腐蝕中逐漸下降，可減少脆性，對(duì)鋯有利，年腐蝕率僅為 0.024-0.04mm/a。

化工反應(yīng)釜的工作方式：
一般與瑭玻璃鋼反應(yīng)釜配合，作蒸汽加熱或水冷卻之用。管內(nèi)大壓力根據(jù)臂厚不同可承受壓力６～２０㎏，換熱面積按設(shè)計(jì)要求制作。
1、耐用程度遠(yuǎn)比（搪玻璃反應(yīng)釜）高出３－５倍（一但搪玻璃釜內(nèi)膽磕碰，掉釉，壽命只有4-12個(gè)月）
2、加熱或冷卻效率比（搪玻璃反應(yīng)釜）在單位容器，單位時(shí)間快6個(gè)小時(shí)，也就是說(shuō)如果改用鋯盤(pán)管換熱，兩臺(tái)釜可以出來(lái)三臺(tái)的產(chǎn)量。
3、我公司有豐富的改裝，維護(hù)，施工經(jīng)驗(yàn)。
如果有對(duì)此產(chǎn)品有興趣的朋友可以給我電話，一起探討，用鋯材的換熱器價(jià)格肯定比搪玻璃的貴，比方一套6300L的釜，使用R60702鋯材盤(pán)管換熱器價(jià)格大概15W，但是經(jīng)過(guò)我公司改裝過(guò)的和新上這種設(shè)備的客戶在使用后，對(duì)本產(chǎn)品都是肯定的，貴的值得，貴的有道理，不論是在經(jīng)濟(jì)上（假以時(shí)日鋯換熱器還是比搪玻璃經(jīng)濟(jì)），還是在生產(chǎn)（產(chǎn)量），維護(hù)上（零維護(hù)），比使用搪玻璃換熱的要好的多

鋯管-鋯板-鋯帶-鋯棒-鋯絲
牌號(hào)：Zr－0、Zr－2、R60702，R60705、Zr－4；
規(guī)格： 0.03～50×200～600×Lmm 0.5～100×Lmm；
種類(lèi)：軋制、鍛制、拉制；標(biāo)準(zhǔn)：Q／BS6531－91、GB8769－88、Q／BS6331－91、Q／BS6431－91。