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制備聚對二甲苯膜的方法有多種：涂層法、真空氣相沉積法、等離子增強化學(xué)氣相沉積法、化學(xué)氣相冷凝法。涂層法是單體溶解在中，配成一定比例的溶液，通過浸涂、噴涂或旋涂等方法制備薄膜，采用催化劑或升溫的方法聚合成聚對二甲苯膜。

聚對二甲苯涂層在室溫條件下氣相沉積獲得的薄膜物質(zhì)，可以生成數(shù)百微米內(nèi)任何厚度的薄膜。利用真空沉積技術(shù)可以將膜厚精度控制在1μm。此外，真空沉積的帕利靈具有均一性、保形性，無微孔無缺陷，化學(xué)性質(zhì)不活潑等優(yōu)良特性。

聚對二甲苯涂層材料主要有 Parylene N(聚對二甲苯)、Parylene C(聚一氯對二)和 Parylene D(聚二氯對二)三種。它是采用真空熱解氣相堆積工藝制備，可制成極薄的薄膜，主要用作薄膜和涂層，用于電子元器件的電絕緣介質(zhì)、保護性涂料和包封材料等。