PEI 樹脂具有出色的電性能，在廣泛的環境條件下都能保持穩定。再加上熱性能和機械性能，使PEI 樹脂成為要求的電子和電氣應用的理想選擇。

PEI*樹脂可以在大多數標準注塑機上注塑。建議使用往復式螺桿注塑機。
確定用于注塑特定PEI*樹脂部件的設備大小時，應考慮的兩個基本因素是總注射重量和總投影面積。
一般在總注射量（所有模腔加道和澆口）等于機器能力的30到80%時，可獲得佳效果。在使用大型機筒時，如果注射亙太小，則可能會不必要地延長樹脂滯留時間。如果有必要在適宜溫度范圍內在較高溫度下進行注塑，減少材料熱降解的可能性通常要求減少滯留時間。因此，為了達到較高溫度注塑要求，建議小的注射大小也應大于機器能力的60%.

PEI的性能特點1.物理性能：
非結晶型；尺寸穩定性好；蠕變敏感度低；熱膨脹系數小且均勻；的強度重量比；非常出色的抗著色性能；符合FDA和NSF
2.耐熱性能：高溫穩定性；很高的長期耐熱能力，熱變形溫度達220℃；玻璃態轉變溫度（Tg）為217℃，HDT/Ae為190℃，可在-160一180℃的工作溫度下長期使用，允許間歇高使用溫度為200℃；導熱系數0.22W/m/K。
3.電性能：的電氣性能；在寬廣的頻率和溫度范圍中有穩定的介電常數（低至3.15）和介電損耗及的介電強度；電絕緣；
4.耐化學性：PEI幾乎不為所有脂肪族烴類浸蝕，對硝酸、硫酸、磷酸等有良好的耐久性，但PEI對堿性溶劑的耐受性不好。
也因為這點，PEI在經過陽極處理后而比變色，被水果公司作為ＩＰ４雙色隔斷條的二射材料，但也因為其耐堿性差，在ＩＰ５以后被ＰＰＳＵ所取代（本身的抗沖擊性不是特別好，加之堿性溶液同時也使其抗沖擊性能更下降）。
它具有優良的耐水性和耐沸水分解性能，在沸水中經1000h后仍能保持的拉伸85%強度。室溫下在汽油中浸泡96h未見異常，但在150℃時能溶于、三氯乙烯和氫氧化胺等溶劑，耐堿性較差。
對以氟里昂為基礎的清洗劑、致冷劑和氣相焊接介質耐受性很好。另外，其對芳香烴，酯類，醚類，酮類等溶劑比較敏感，在使用環境中有與這些物質接觸時要特別留意。
5.耐候性：PEI的耐氣候性，在不加任何穩定劑條件下，能經受紫外線的曝曬，經在氙燈耐候試驗箱內曝曬1000小時，拉伸強度變化極微。在β射線下的耐也優于PSF、PES等。
6.耐性：PEI還顯示出良好的耐伽馬性，在用鈷60以每小時1 兆拉德的速率經累積暴露5000兆拉德之后，拉伸強度僅損失6%。此外，PEI對可見光、紅外和微波是透過的，不吸收。
7.成型加工性：和熱固性聚酰亞胺不同，PEI能以傳統的熱塑性塑料成型方法進行加工，加上的機械切削和二次裝飾特性，可以制造各種各樣的零部件。

PEI塑膠原料聚醚酰應用范圍:汽車工業（發動機配件如溫度傳感器、燃料和空氣處理器等），電器及電子設備（電氣聯結器、印刷電路板、芯片外殼、防爆盒等），產品包裝，飛機內部設備，醫藥行業（器械、工具殼體、非植入器械）。
注塑模工藝條件:
干燥處理：PEI具有吸濕特性并可導致材料降解。要求濕度值應小于0.02%。建議干燥條件為150C、4小時的干燥處理。
熔化溫度：普通類型材料為340~400C；增強類型材料為340~415C。
模具溫度：107~175C，建議模具溫度為140C。壓力：700~1500bar。
速度：使用盡可能高的速度。
化學和物理特性: PEI具有很強的高溫穩定性，既使是非增強型的PEI，仍具有很好的韌性和強度。因此利用PEI的熱穩定性可用來制作高溫耐熱器件。
PEI還有良好的阻燃性、抗化學反應以及電絕緣特性。玻璃化轉化溫度很高，達215C。PEI還具有很低的收縮率(一般在0.4%-0.7%)及良好的等方向機械特性。

PEI塑膠原料應用領域
PEI塑膠原料4.家用領域：各種、高重復使用的食品服務行業，餐盤、湯碗、蒸盤、鐘形罩、微波碗、烤箱器具、烹飪用具和可以重復使用的飛機餐
PEI塑膠原料5.航天航空領域：飛機內部零件，舷窗、機頭部部件、座件靠背、內壁板、門覆蓋層以及供乘客使用的各種物件、空氣閥、燃油閥、餐盤容器、方向盤、內部鍍層部件和板結構組件。
PEI塑膠原料1.電子電器領域：電控裝置、計算機組件、手機內置天線、射頻雙工機、微型濾波器、光纖連接器、普通和微型繼電器外殼、電路板、線圈、FPCB（軟性線路板）、反射鏡、密光纖元件、耐高溫端子、IC底座。
PEI塑膠原料2.汽車領域：傳動組件、節流組件、點火組件、傳感器和恒溫器殼體、高溫連接件、高功率車燈和指示燈、控制汽車艙室外部溫度的傳感器（空調溫度傳感器）、控制空氣和燃料混合物溫度的傳感器（有效燃燒溫度傳感器）、耐高溫潤滑油侵蝕的真空泵葉輪、在180℃操作的蒸鎦器的磨口玻璃接頭（承接口）、非照明的防霧燈的反射鏡。

PEI 樹脂在接觸大多數汽車和飛機液體、全鹵化碳氫化合物、酒精和稀水溶液時表現出了的性能保持能力和對環境應力斷裂的耐受力。應避免曝露于鹵化氫化合物和強堿環境中。