當(dāng)今時(shí)代真空鍍膜機(jī)的迅速發(fā)展，讓鍍膜機(jī)的種類也變得豐富起來(lái)。接下來(lái)我們來(lái)列舉一下鍍膜的分類和鍍膜機(jī)所應(yīng)用到的行業(yè)。 來(lái)說(shuō)一下分類，我們的鍍膜機(jī)可分為裝飾涂層鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備、連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線、功能涂層鍍膜設(shè)備還有卷繞式鍍膜設(shè)備。鍍膜機(jī)種類繁多，也意味著它們所應(yīng)用的行業(yè)也頗為廣泛。

電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備：此設(shè)備多數(shù)應(yīng)用于各種化合物及金屬鍍料；可鍍制多層精密光學(xué)膜，如AR膜、長(zhǎng)波通、短波通、增亮膜、AS/AF膜、IRCUT、彩色膜系、漸變膜系等。已經(jīng)廣泛應(yīng)用在手機(jī)玻璃蓋板、攝像頭、眼鏡片、光學(xué)鏡頭、游泳鏡、滑雪防護(hù)鏡、PET膜片、PMMA、光變磁性薄膜、防偽、化妝品等多種產(chǎn)品，有這樣需要的人們可以認(rèn)證這個(gè)鍍膜設(shè)備。

連續(xù)性鍍膜生產(chǎn)線，該設(shè)備主要應(yīng)用在汽車(chē)行業(yè)的車(chē)標(biāo)鍍膜，汽車(chē)塑膠飾件、電子產(chǎn)品外殼等產(chǎn)品。它的優(yōu)點(diǎn)在于鍍膜線的鍍膜室長(zhǎng)期處于高真空狀態(tài)，雜氣少、膜層純凈度高，折射率好；配置了全自動(dòng)Speedflo閉環(huán)控制系統(tǒng)，提高膜層沉積速率，生產(chǎn)過(guò)程有全程監(jiān)控，方便快速的追蹤生產(chǎn)不良，設(shè)備自動(dòng)化高，可以配合機(jī)械手臂完成工序，降低了人工成本。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。真空鍍膜機(jī)主要應(yīng)用范圍很廣。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí)，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。當(dāng)高壓真空表“5”內(nèi)指針逆時(shí)針移動(dòng)超過(guò)6.7Pa時(shí)，開(kāi)工件旋轉(zhuǎn)鈕開(kāi)關(guān)，鐘罩內(nèi)被鍍件PVDF膜轉(zhuǎn)動(dòng)。

真空鍍膜技術(shù)所使用的原材料非常廣泛，主要有單質(zhì)元素、化合物、無(wú)機(jī)材料或有機(jī)材料等。真空鍍膜技術(shù)主要有氣相生成法、氧化法、擴(kuò)散法、電鍍法、離子注入法等。其中，氣相生成法又可分為物理氣相沉積法（PVD）、化學(xué)氣相沉積法（CVD）和放電聚合法等。真空鍍膜技術(shù)只有通過(guò)真空鍍膜設(shè)備才能實(shí)現(xiàn)，根據(jù)真空鍍膜技術(shù)的不同，大致可分為PVD鍍膜設(shè)備、CVD鍍膜設(shè)備、磁控濺射鍍膜設(shè)備等。

剛步入真空行業(yè)的新人們，把真空設(shè)備買(mǎi)回去卻不知道怎么使用，接下來(lái)我們來(lái)詳細(xì)的說(shuō)一下真空鍍膜機(jī)的使用方法：真空鍍膜機(jī)是目前制作真空應(yīng)用比較廣泛的設(shè)備之一，隨著鍍膜技術(shù)的快速增長(zhǎng)，各種類型的真空鍍膜機(jī)也開(kāi)始陸陸續(xù)續(xù)的出現(xiàn)。它的工作原理很簡(jiǎn)單，正是因?yàn)樗陨淼脑S多優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)，所以它的使用范圍也越來(lái)越廣。