化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個重要因素。因此，當點評某薄膜樣品的功用時，需求檢測該薄膜樣品不同厚度下的功用。對于真空鍍膜的情形，這往往需求進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀況不同，以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次，真空鍍膜試驗裝取樣品需求重新進行真空的獲得，十分耗時。增加了出產和檢測的本錢。

多功用磁控濺射鍍膜系統，由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實現蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個薄膜生長和器材制備過程高度集成在一個完整的可控環境氣氛的系統中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環境中不穩定因素影響，保障了高功用、大面積有機光電器材和電路的制備。

塑膠具有易成型，價格便宜，質量輕，防腐蝕等長處，但塑膠的缺陷也比較，其缺陷也制約了塑膠的應用規模，如不美觀、易老化、機械功能差、易碎易變型、耐熱差等。經過真空鍍膜機的應用，使塑膠外表鍍上特定膜層，東莞匯成真空自主研制出產的蒸發真空鍍膜設備將鍍膜機資料和塑膠產呂結合，大大提高了塑膠制品的物理、化學功能。

前期清洗真空鍍膜機可以減少很多麻煩，避免濺射鍍膜機的很多小問題，對真空鍍膜機的工作效率和鍍膜質量有非常積極的作用。它可以大大提高真空系統中所有壁面和其他部件表面在各種工況下的工作穩定性。這些工作條件包括:高溫、低溫以及電子、離子、光子或重粒子的發射和轟擊。

工件常用的除氣方法是烘烤。工件中的氣體和水分通過加熱排出。涂裝前，工件邊抽邊加熱。當工件中的水分和氣體因受熱而釋放出來時，它們與真空室中的氣體一起被真空泵抽出。針對不同的工件采取不同的脫氣措施，可以有效控制工件內部氣體和水的排放，提高涂層的穩定性和均勻性。
與傳統的鍍膜方法相比，真空鍍膜屬于干法鍍膜，其主要方法有以下幾種:

　　1.真空蒸發

　　其原理是在真空條件下，用蒸發器加熱蒸發材料使其蒸發或升華，蒸發的離子流直接射向基片，在基片上沉積固體薄膜。

　　2.濺射涂層

　　濺射鍍膜是一種真空條件，在陰極施加2000V高壓激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg

　　3.離子電鍍法

　　即干式螺桿真空泵制造商已經推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術的基礎上發展起來的，所以具有兩者的工藝特點。在真空條件下，工作氣體或蒸發物質(膜材料)通過氣體放電被部分電離，蒸發物質或其反應物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過程中，襯底總是受到高能粒子的轟擊，這使得它非常干凈。

　　4.真空卷繞涂層

　　真空鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上進行連續鍍膜的技術，以實現柔性基板的某些功能性和裝飾性。
在檢漏過程中，為了做好檢漏工作，有必要注意一些問題。

，檢查虛漏是否仍為實漏，因為工件數據加熱后會出現不同程度的氣體，有可能被誤認為是從外部流出的氣體，這就是虛漏，要消除這種情況。

第二，測試真空室的氣密性功能，確保氣密性功能符合要求。

三、檢查漏孔的大小、形狀、方位、漏速，編制解決方案并實施。

四、得出檢測儀器檢漏的檢出率和靈敏度，要檢查刻度的泄漏情況，防止一些泄漏孔被疏忽，提高泄漏檢測的準確性。

五、掌握檢漏儀的反應時間和消除時間，把握好時間，檢漏儀操作到位，時間少，檢漏功能一定差，時間長，浪費檢漏氣和人工電。

六、還要防止泄漏堵塞，有時由于操作失誤，在檢漏過程中，一些灰塵或液體將泄漏堵塞，認為孔的方向沒有泄漏，但當由于內外壓差進展或其他原因導致泄漏孔未堵塞時，泄漏仍在那里。