對比幾個真空鍍膜機的檢漏方法：
氦質譜檢漏該工藝是真空鍍膜機真空檢漏技術里不可缺少的一種技術，因為檢漏率，簡單易使用，儀器設備反映靈敏，，不容易受別的氣體的影響，在檢漏中獲得了廣泛運用。氦質譜檢漏儀是依據質譜學基本原理，用氮氣作示漏氣體做成的氣密性檢測儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規構成的質譜分析室和吸氣系統及電氣一部分等構成。質譜分析室里的鎢絲發送出去的電子，在房間內不停地震蕩，并與房間內空氣和經漏孔進入到屋內的氦氣互相撞擊使其水解成共價鍵，這種氦離子在加快靜電場的作用下進入到磁場，因為洛倫茲力作用產生偏轉，產生圓弧狀軌道，更改加速電壓可使不一樣品質的離子通過磁場和接受縫抵達接收極而被檢驗。噴氦法、吸氦法是氦質譜檢漏儀在檢漏中經常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏，鍍膜機不需要停機，直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀，在懷疑有漏的地方噴氦氣，即可完成檢漏。

有些真空鍍膜機真空計的讀數，與氣體種類有關，比如熱偶計，電離真空計。選用適當的氣體或液體做示漏物質，這些真空計便成了探測器，一般鍍膜機上都有真空計，使用起來很方便，也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質有，二氧化碳，丁烷，酒精等熱偶計反應較慢，觀察要很仔細。用于電離計的示漏物質有氦，氬，酒精等。

真空系統是鍍膜機達到工藝條件的基本設備，其真空度達不到或者達到真空度速度慢，都有可能是由于存在漏點所致，所以真空卷繞鍍膜機設備的真空系統需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機通常采用氦質檢漏儀來查漏，主要用負壓法檢漏即將氦質譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機的真空系統，在可能泄漏地方噴氦檢漏。

真空鍍膜機的工作原理如下：
在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。因此，當評價某薄膜樣品的性能時，需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形，這往往需要進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀態不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實驗裝取樣品需要重新進行真空的獲得，非常耗時。增加了生產和檢測的成本。
因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統，本系統由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發鍍膜與手套箱組合，實現蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環境氛圍的系統中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環境中不穩定因素影響，保障了、大面積有機光電器件和電路的制備。

真空鍍膜機工作的環境要求：
真空鍍膜設備要在真空條件下工作，因此該設備要滿足真空對環境的要求。真空對環境的要求，一般包括真空設備對所處實驗室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環境的要求，和對處于真空狀態或真空中的零件或表面要求兩個方面。
這兩個方面是有密切聯系的。周圍環境的好壞直接影響真空設備的正常使用；而真空設備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣，要達到預期的真空度很難的。眾所周，油封式機械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當大量抽除可凝性氣體時，對泵油的污染會更加嚴重，結果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能。
長期回收真空鍍膜機鍍膜生產線設備。

主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。
光學鍍膜設備工作原理是在高真空狀態下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當的溫度，材料受熱后蒸發成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發源至被蒸發基片距離大，蒸發出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護與保養主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設備的清洗與保養。