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濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。
在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個重要因素。因此，當點評某薄膜樣品的功用時，需求檢測該薄膜樣品不同厚度下的功用。對于真空鍍膜的情形，這往往需求進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀況不同，以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次，真空鍍膜試驗裝取樣品需求重新進行真空的獲得，十分耗時。增加了出產和檢測的本錢。
多功用磁控濺射鍍膜系統，由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實現蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個薄膜生長和器材制備過程高度集成在一個完整的可控環境氣氛的系統中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環境中不穩定因素影響，保障了高功用、大面積有機光電器材和電路的制備。
聚乙烯由于真空鍍膜習慣差，但經過改造后仍是能夠用于真空鍍膜的，但只能出產等級低的包裝產品或隔熱產品，聚丙烯比聚乙烯受熱更穩定，并且十分輕，所以其利用價值比較高，不過聚丙烯與膜層的結合性比較差，所以表面處理后才能進行鍍膜，膜層作裝飾作為，使產品更漂亮。
暴露在空氣中的真空鍍膜機表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現象、化學反應、浸出干燥過程、機械處理、擴散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。
①油脂:潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;
②水基類:操作時的手汗、吹氣時的水蒸氣、唾液等。
③表面氧化物:材料長時間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;
④酸、堿、鹽類物質:清洗時的殘留物質、手汗、水中的礦物質等。
⑤環境空氣中的拋光殘渣、灰塵和其他有機物等。
檢查泄漏情況是真空鍍鈦機真空度的一種檢查方法，簡稱檢漏。真空的凹凸度直接影響鍍膜的作用，因此檢漏是的。通常情況下，真空室的漏氣是由腔壁上的一些孔或元件前的薄接頭引起的。抽氣系統抽氣時，真空室內壓力降低。內外壓差使氣體從外部高壓流向低壓真空室，造成真空度降低。
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