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金屬在真空中加熱時會變成氣體而蒸發,真空蒸發就是利用此原理。處理時多在10-5Torr以下的真空中進行,金屬及各種化合物都可當作被附著物質,其應用例有鏡片、反射鏡、塑膠零件等;但是以金屬表面硬化為目的的用途則很少,主要多用于裝飾性物件。
PVD鍍膜涂層工藝中效果好的為離子鍍膜方式;此方法是利用電弧撞擊靶材,使靶材原子被激發出來,與反應性氣體反應,形成化合物沉積于工件表面的一種技術。爐內運行至高真空后,通入惰性氣體,加偏壓造成氬離子(Ar+),及帶負電的電子(e-),帶正電的氬離子會撞向通入偏壓為負極的基板底材,來清潔工件表面;之后再通入反應氣體,在靶材和基板底材間產生電漿,進行鍍膜作業。此一方式成膜速度快、密著性較佳,多用于切削刀具鍍膜涂層處理。