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隨著鍍膜技術的快速增長，各種類型的真空鍍膜設備生產線也開始逐漸出現。但是論起薄膜的均勻性，恐怕所有的真空設備鍍制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響，現在我們就濺控濺射鍍膜機來看看造成不均勻的因素有哪些。
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真空鍍膜厚度屬于微米級，1μm 相當于傳統電鍍一條的十分之一，因此經過鍍膜作業以后，并不會影響工件的精度；傳統電鍍的批覆方式是以一種包覆的方式在外形成一層電鍍層，并無高度密著性可言。
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