真空均質乳化機是集混合、分散、均質、乳化及吸粉多功能于一體的成套系統，帶有電控系統，也可配合外圍油、水相罐，真空，加熱/冷卻系統等使用。是生產藥用軟膏、膏霜、乳液等的設備。

在高粘性乳化物，特別是膏霜，軟膏，乳劑類產品的制造工藝中，通常成問題的是分散相的粒徑大和攪拌時把空氣混入制品中，粒徑過大導致乳狀物不穩定，缺少光澤，制品中混入空氣則會使制品氣泡化，細菌污染，易氧化及外觀不光滑。針對兩大問題，我公司開發出的ZJR系列真空均質乳化機組，由均質攪拌器，中心葉片攪拌，刮壁攪拌各自具有的特點相輔相成，組合成佳的攪拌方式，以達到混合制品。采用抽真空的方式，使所生產的制品在攪拌過程中不再混入氣泡，從而可制造出富有光澤，細膩及延展性良好的產品。

膩子粉生產設備是在多螺帶干粉混合機的基礎上，增加電動上料機、儲料罐、自動灌裝機及電控柜，從而構成合理，操控便捷的簡易流水作業體系。

油漆生產設備由進料系統、分散系統、研磨系統、調漆系統、出料及過濾系統、灌裝系統、控制系統、操作平臺、色漿生產部分組成。從進料到出料、成品包裝，完全自動化生產，流水線式的生產過程，，采用國際的分散研磨系統，細度好，產品質量穩定。

分散盤帶動研磨介質高速運動而產生摩擦和剪切，使物料得到研磨和分散。研磨室采用強制冷卻。有臥式砂磨機及立式砂磨機之分，如圓筒形環隙式砂磨機和塔式砂磨機等。一般為濕式研磨。物料在旋轉研磨盤作用下與研磨體混合并旋轉，經與研磨體之間及與粉碎室各部分之間產生的研磨、剪切而粉碎。有臥式砂磨機及立式砂磨機之分，如圓筒形環隙式砂磨機和塔式砂磨機等。一般為濕式研磨。
臥式砂磨機筒體內的旋轉主軸上裝有多層圓盤。當主軸轉動時，研磨介質在旋轉圓盤 的帶動下研磨壓入筒內的漿料,使其中的固體物料細化合格的漿料穿過小于研磨介質粒度的過濾間隙或篩孔流出。筒體部分備有冷卻或加熱裝置，以防筒內因物料、研磨介質和圓盤等相互摩擦所產生的大量的熱影響產品質量，或因送入的漿料冷凝以致流動性降低而影響研磨效能。研磨介質可用適當的天然砂，也可用粒度為0.1～2毫米的人造玻璃珠，目前國內外砂磨機均已使用氧化鋯珠充當研磨介質，氧化鋯珠本身易清潔，硬度高，比玻璃珠及天然沙更耐磨，所以目前國內高低檔砂磨機均使用氧化鋯珠作為研磨介質。當給料粒度小于450微米時,排料粒度可達1微米以下。這種磨機在細化物料的同時,還有分散和混合作用，適于磨制染料、顏料、油漆涂料、藥物和其他懸浮液或膠懸劑等。
研磨介質填充率從40%增加至75%時，運行電流曲線呈上升趨勢，反映砂磨機中的研磨介質得到充分攪動，能量需求變化大；填充率在75%-85%，運行電流曲線變化平穩，反映砂磨機中的介質達到一個平衡點，能量需求穩定；填充率大于85%，運行電流曲線變化呈下降趨勢，反映砂磨機中的研磨介質過量，研磨介質與分散盤之間有滑動現象，分散盤不能帶動所有研磨介質運動，能量需求降低。因此，根據砂磨機的電流變化曲線可知，研磨介質適宜的填充率為80%。[1]
納米砂磨機電機安裝在簡潔的機器框架上，通過V型皮帶來能量傳送；高精密隔離間隙具自潔功能，適用粒徑0.4~2mm研磨介質; 臥式納米砂磨機采用雙端面機械密封作為壓力阻抗裝置；錐形研磨腔間隙攪拌器，加工區域容積小，可降低產品交叉污染，易于更換產品；轉子、定子雙冷卻；研磨腔采用高耐磨材料；以壓力為動力的機械活塞用于改變研磨腔的體積，從而調節產品的質量；控制面板整體嵌于機器框架上，所有控制鍵皆在其上；白色產品不會變灰。系統密封性好，磨損極低，散熱性好，生產能力高。錐形設計的研磨腔，使得磨珠在入料端沖擊強烈，物料在一進入研磨腔就大程度地得到研磨，從而得到穩定的、細度的研磨效果。
臥式砂磨機是一種水平濕式連續性生產的超微粒分散機， 其操作簡單，研磨。
操作方法是將要研磨的物料與研磨 介質(介質的直徑為3/32″~3/32″,通常使用研磨介質的類型有：鐵素合金、玻璃、陶瓷、氧化鋯、純鋯等)一起放入帶有夾套 的靜止研磨缸中，通過攪拌臂和分散葉片的高速作用，賦予研 磨介質足夠的動能，借助高速運動的介質對物料施加剪切力和沖擊力，從而獲得佳分散、研磨效果。
特殊設計的雙速啟動矩力馬達，無需聯軸器。在加料和卸 料的時候用低速，研磨時用高速。
特殊的分離裝置，將被分散物與研磨介質分離排出，不必 象三滾機一樣需要高度的操作技巧即可得到均衡優良的品質，可實現大批量連續式生產，大大提高了品質，又大幅降低了成本。