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鍍膜設備應該在高真空下工作，真空值的優劣可以直接危害表層的鍍膜的質量。有時鍍膜設備的真空值抽不出來或是真空值不太好，可能是連接頭松脫或是有焊接發生脫焊。傳統式的氣密性試驗方式應該鍍膜設備關機，充氮，再在猜測有漏的位置涂上肥皂泡，整個過程用時費事極易錯判，針對微小的泄露沒法檢驗。諾益氦質譜檢漏儀運用氦氣做為示蹤氣體，小漏率低于5E-13Pam3/s，安全環保，檢漏時無需關機，立即在機械泵的旁通連接測漏儀便可以迅速有效的進行檢驗了。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。
真空鍍膜工藝在傳感器方面的運用在傳感器中，多選用那些電氣性質相關于物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體資料。此外，其中大多數運用的是半導體的外表、界面的性質，需求盡量增大其面積，且能工業化、低報價制造、因而選用薄膜的狀況許多。
