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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。
真空鍍膜機(jī)的工作原理如下：
在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個(gè)重要因素。因此，當(dāng)評(píng)價(jià)某薄膜樣品的性能時(shí)，需要檢測(cè)該薄膜樣品不同厚度下的性能。對(duì)于真空鍍膜的情形，這往往需要進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個(gè)問(wèn)題：，不同次生長(zhǎng)的樣品，儀器的狀態(tài)不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實(shí)驗(yàn)裝取樣品需要重新進(jìn)行真空的獲得，非常耗時(shí)。增加了生產(chǎn)和檢測(cè)的成本。
因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測(cè)。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)試等工藝全封閉制作，使整個(gè)薄膜生長(zhǎng)和器件制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。
真空鍍膜工藝在信息存儲(chǔ)范疇中的運(yùn)用薄膜資料作為信息記載于存儲(chǔ)介質(zhì)，有其得天厚的優(yōu)勢(shì)：因?yàn)楸∧ず鼙∧軌蚴韬鰷u流損耗；磁化回轉(zhuǎn)極為敏捷；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀況簡(jiǎn)單保持等。為了更精細(xì)地記載與存儲(chǔ)信息，必定要選用鍍膜技能。
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