廈門(mén)光刻膠   電子束光刻膠 

• XR-1541系列是專(zhuān)為電子束光刻設(shè)計(jì)的負(fù)性光刻膠，基于氫倍半硅氧烷（HSQ）樹(shù)脂化學(xué)體系，在（MIBK）溶劑中配制而成，適用半導(dǎo)體級(jí)高純度工藝。其版本區(qū)分（如002/004/006）對(duì)應(yīng)不同濃度或配方優(yōu)化，支持旋涂沉積涂布，膜厚范圍覆蓋350 nm至810 nm，滿(mǎn)足多樣化微納結(jié)構(gòu)需求

• ?分辨率?
  可實(shí)現(xiàn)小6 nm的圖形定義（如密集線條或點(diǎn)陣），通過(guò)電子束直寫(xiě)技術(shù)達(dá)成無(wú)掩模光刻，適用于下一代亞10 nm器件開(kāi)發(fā)

• ?抗蝕刻性?
  曝光后轉(zhuǎn)化為非晶態(tài)SiO?結(jié)構(gòu)，提供強(qiáng)耐離子束或等離子刻蝕能力，有效充當(dāng)硬掩模層

• ?低邊緣粗糙度?
  線條邊緣粗糙度（LER）顯著低于有機(jī)光刻膠，提升圖案轉(zhuǎn)移精度，尤其適合高頻晶體管和量子點(diǎn)陣列制造

• 用于直寫(xiě)光刻工藝定義納米級(jí)柵極或互連結(jié)構(gòu)，適配高純度半導(dǎo)體配方

• 生成超材料波導(dǎo)或高深寬比硅微器件，因其SiO?轉(zhuǎn)化特性簡(jiǎn)化刻蝕流程