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廈門光刻膠 電子束光刻膠
國產(chǎn)PMMA可實(shí)現(xiàn)?5–10 nm小線寬?，適用于納米級(jí)電子器件制造，分辨率與進(jìn)口產(chǎn)品相當(dāng)
?分子量定制化?
覆蓋?70K–950K全分子量范圍?（如350K標(biāo)準(zhǔn)品），通過調(diào)節(jié)分子量平衡靈敏度與分辨率
?工藝兼容性?
支持單層/雙層曝光、碳納米管轉(zhuǎn)移及剝離工藝（lift-off），顯影后圖案側(cè)壁陡直
?物理性能?
高透明度（可見光透過率>90%）、化學(xué)穩(wěn)定性，耐等離子刻蝕性弱于HSQ但滿足常規(guī)微加工需求
