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氧化鋁拋光液是一種常用的表面處理劑，廣泛應用于金屬、陶瓷、塑料等材料的拋光過程中。它由氧化鋁微粒和穩定劑組成，具有良好的拋光效果和穩定性。
氧化鋁拋光液適用于金相和巖相研磨、拋光外，還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產品的高光潔度表面的研磨及拋光。極細的磨料能夠得到需要的超精拋光平面。
使用方法:
1.在配比好的溶液里面直接攪拌均勻，到攪拌分散開為止(5~10分鐘)。
2.按照1:3比例稀釋，在耐堿容器中先加水再加拋光液，攪拌至完全懸浮為止。
3.根據使用方式調拋光機的轉速:a)單面拋光:50-70RPM。b)雙面拋光:20-30RPM。
4.調拋光機的壓力:380-400g/cm2(單拋)、250-280g/cm2(雙拋)。
5.選擇拋光墊:聚氨酯，邵氏A硬度在85以上。
納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環使用壽命長、易清洗、通用性好等特點，適用于半導體碳化硅晶圓的CMP拋光。
氧化鋁拋光液，涉及半導體碳化硅晶圓拋光材料制備技術領域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調節劑0.1?10、余量為高純水；其制備過程為：①備料；②磨料預處理；③混合；④pH值調節；⑤高壓均質。
氧化鋁拋光液具有以下性能：
1、晶相穩定、硬度高、顆粒小且分布均勻，懸浮穩定性好；
2、磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好；
3、研磨，拋光效果好，研磨效率遠遠二氧化硅等軟質磨料，表面光潔度優于白剛玉的拋光效果，切削力強、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。
4、適用范圍廣，拋光后容易清洗。
