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真空鍍膜設備存有著氣密性差的問題，假如鍍膜設備維護保養進行后，能做一次氣密性試驗，就可以規避許多不合格產品的造成，做到節省成本費用的效果。
鍍膜設備應該在高真空下工作，真空值的優劣可以直接危害表層的鍍膜的質量。有時鍍膜設備的真空值抽不出來或是真空值不太好，可能是連接頭松脫或是有焊接發生脫焊。傳統式的氣密性試驗方式應該鍍膜設備關機，充氮，再在猜測有漏的位置涂上肥皂泡，整個過程用時費事極易錯判，針對微小的泄露沒法檢驗。諾益氦質譜檢漏儀運用氦氣做為示蹤氣體，小漏率低于5E-13Pam3/s，安全環保，檢漏時無需關機，立即在機械泵的旁通連接測漏儀便可以迅速有效的進行檢驗了。
有些真空鍍膜機真空計的讀數，與氣體種類有關，比如熱偶計，電離真空計。選用適當的氣體或液體做示漏物質，這些真空計便成了探測器，一般鍍膜機上都有真空計，使用起來很方便，也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質有，二氧化碳，丁烷，酒精等熱偶計反應較慢，觀察要很仔細。用于電離計的示漏物質有氦，氬，酒精等。
真空系統是鍍膜機達到工藝條件的基本設備，其真空度達不到或者達到真空度速度慢，都有可能是由于存在漏點所致，所以真空卷繞鍍膜機設備的真空系統需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機通常采用氦質檢漏儀來查漏，主要用負壓法檢漏即將氦質譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機的真空系統，在可能泄漏地方噴氦檢漏。
真空鍍膜工藝在信息存儲范疇中的運用薄膜資料作為信息記載于存儲介質，有其得天厚的優勢：因為薄膜很薄能夠疏忽渦流損耗；磁化回轉極為敏捷；與膜面平行的雙穩態狀況簡單保持等。為了更精細地記載與存儲信息，必定要選用鍍膜技能。
真空鍍膜工藝在傳感器方面的運用在傳感器中，多選用那些電氣性質相關于物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體資料。此外，其中大多數運用的是半導體的外表、界面的性質，需求盡量增大其面積，且能工業化、低報價制造、因而選用薄膜的狀況許多。
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